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1. (WO2008123101) FILM ANTIREFLET, PLAQUE POLARISANTE L'UTILISANT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/123101    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/055086
Date de publication : 16.10.2008 Date de dépôt international : 19.03.2008
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (Tous Sauf US).
DOI, Daisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IKEDA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : DOI, Daisuke; (JP).
IKEDA, Toshiyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-095839 31.03.2007 JP
2007-095902 31.03.2007 JP
2008-052300 03.03.2008 JP
Titre (EN) ANTIREFLECTION FILM, POLARIZING PLATE USING THE SAME, AND IMAGE DISPLAY
(FR) FILM ANTIREFLET, PLAQUE POLARISANTE L'UTILISANT ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE
(JA) 反射防止フィルム、それを用いた偏光板、及び画像表示装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is an antireflection film which is excellent in adhesion between layers, while being improved in abrasion resistance, antistatic properties, and uneven coating during production. This antireflection film is also excellent in chemical resistance under high temperature high humidity conditions. Also disclosed are a polarizing plate having excellent visibility, which uses the antireflection film, and an image display. Specifically disclosed is an antireflection film comprising a high refractive index layer and a low refractive index layer, wherein the high refractive index layer is formed by coating a coating liquid containing a conductive particle, an alkoxylated ionizing radiation curable resin having 1-3 carbon atoms and/or an ionizing radiation curable resin having a dioxane structure, and an organosilicon compound represented by the general formula (1) below, a hydrolysis product thereof or a polycondensation product thereof. R'nSi(OR)4-n (1) In the formula, R' represents a vinyl group, an amino group, an epoxy group, a chlorine group, a methacryloxy group, an acryloxy group or an isocyanate group; R represents an alkyl group; and n represents the number of substitution.
(FR)L'invention concerne un film antireflet qui a une excellente adhésion entre les couches, tout en ayant une résistance à l'abrasion améliorée, des propriétés antistatiques améliorées et un revêtement irrégulier amélioré pendant la fabrication. Ce film antireflet a également une excellente résistance chimique dans des conditions de haute température et d'humidité élevée. L'invention concerne également une plaque polarisante ayant une excellente visibilité, qui utilise le film antireflet, et un dispositif d'affichage d'image. L'invention concerne spécifiquement un film antireflet comprenant une couche à indice de réfraction élevé et une couche à indice de réfraction faible, la couche à indice de réfraction élevé étant formée par revêtement d'un liquide de revêtement contenant une particule conductrice, une résine alcoxylé durcissable par rayonnement ionisant ayant 1-3 atomes de carbone et/ou une résine durcissable par rayonnement ionisant ayant une structure de dioxane, et un composé organosilicium représenté par la formule générale (1) ci-après, un produit d'hydrolyse de celui-ci ou un produit de polycondensation de celui-ci. R'nSi(OR)4-n (1). Dans la formule, R' représente un groupe vinylique, un groupe amino, un groupe époxy, un groupe chlorure, un groupe méthacryloxy, un groupe acryloxy ou un groupe isocyanate; R représente un groupe alkyle; et n représente le nombre de substitutions.
(JA) 各層間の密着性に優れ、耐擦性、帯電防止性、及び生産時の塗布むらが改善され、高温高湿下での耐薬品性に優れた反射防止フィルム、反射防止フィルムを用いた視認性に優れた偏光板、表示装置を提供する。  高屈折率層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムにおいて、高屈折率層が、導電性粒子、炭素数1~3のアルコキシ化した電離放射線硬化型樹脂及び/又はジオキサン構造を有する電離放射線硬化型樹脂、並びに下記一般式(1)で表わされる有機珪素化合物若しくはその加水分解物あるいはその重縮合物を含有する塗布液をコーティングして形成される。     R’Si(OR)4-n   …(1)  式中、R’はビニル基、アミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、又はイソシアネート基、Rはアルキル基、nは置換数である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)