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1. (WO2008121630) FOUR DE FUSION COMPRENANT UN ÉMETTEUR D'ÉLECTRONS DE PLASMA IONIQUE À DÉCHARGE À FIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/121630    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/058175
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 26.03.2008
CIB :
C22B 9/22 (2006.01), F27B 3/08 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Déposants : ATI PROPERTIES, INC. [US/US]; 1600 N.E. Old Salem Road, Albany, Oregon 97321 (US) (Tous Sauf US).
FORBES JONES, Robin M. [US/US]; (US) (US Seulement).
KENNEDY, Richard L. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : FORBES JONES, Robin M.; (US).
KENNEDY, Richard L.; (US)
Mandataire : VICCARO, Patrick J.; 1000 Six PPG Place, Pittsburgh, PA 15222, (US)
Données relatives à la priorité :
60/909,118 30.03.2007 US
Titre (EN) MELTING FURNACE INCLUDING WIRE-DISCHARGE ION PLASMA ELECTRON EMITTER
(FR) FOUR DE FUSION COMPRENANT UN ÉMETTEUR D'ÉLECTRONS DE PLASMA IONIQUE À DÉCHARGE À FIL
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus for melting an electrically conductive metallic material includes a vacuum chamber and a hearth disposed in the vacuum chamber. At least one wire-discharge ion plasma electron emitter is disposed in or adjacent the vacuum chamber and is positioned to direct a wide-area field of electrons into the vacuum chamber, wherein the wide-area electron field has sufficient energy to heat the electrically conductive metallic material to its melting temperature. The apparatus may further include, at least one of a mold and an atomizing apparatus which is in communication with the vacuum chamber and is positioned to receive molten material from the hearth. Preferably, the pressure within the furnace chamber is maintained at more than 5,3 Pa to decrease evaporation of volatile elements.
(FR)L'invention concerne un appareil pour faire fondre un matériau métallique électriquement conducteur comprenant une chambre à vide et une sole disposée dans la chambre à vide. Au moins un émetteur d'électrons de plasma ionique à décharge à fil est disposé dans la chambre à vide, ou adjacent à celle-ci, et est positionné pour diriger un champ large d'électrons dans la chambre à vide, le champ large d'électrons ayant une énergie suffisante pour chauffer le matériau métallique électriquement conducteur jusqu'à sa température de fusion. L'appareil peut comprendre en outre au moins un moule et un appareil de vaporisation en communication avec la chambre à vide, et positionné pour recevoir de la matière fondue à partir de la sole. De préférence, la pression dans la chambre du four est maintenue à plus de 5,3 Pa pour diminuer une évaporation d'éléments volatiles.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)