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1. (WO2008121186) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DESTINÉS AU DÉPÔT DE COUCHES MINCES SUR DES SUBSTRATS NON PLATS PAR ESTAMPAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/121186    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/002218
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 19.02.2008
CIB :
H01L 51/00 (2006.01)
Déposants : THE TRUSTEES OF PRINCETON UNIVERSITY [US/US]; P.o.box 36, Princeton, NJ 08544 (US) (Tous Sauf US).
THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN [US/US]; Suite 2071 Wolverine Tower, 3003 S. State Street, Ann Arbor, MI 48109 (US) (Tous Sauf US).
FORREST, Stephen [US/US]; (US) (US Seulement).
QI, Xiangfei [CN/US]; (US) (US Seulement).
DAVANCO, Marcelo [BR/US]; (US) (US Seulement).
XU, Xin [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : FORREST, Stephen; (US).
QI, Xiangfei; (US).
DAVANCO, Marcelo; (US).
XU, Xin; (US)
Mandataire : MCGROARTY, John, P.; Townsend and Townsend and Crew, LLP, Two Embarcadero Center, Eighth Floor, San Francisco, CA 94111 (US)
Données relatives à la priorité :
11/711,115 27.02.2007 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR DEPOSITING THIN LAYERS ON NON-PLANAR SUBSTRATES BY STAMPING
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DESTINÉS AU DÉPÔT DE COUCHES MINCES SUR DES SUBSTRATS NON PLATS PAR ESTAMPAGE
Abrégé : front page image
(EN)An elastomeric stamp is used to deposit material on a non-planar substrate. A vacuum mold is used to deform the elastomeric stamp and pressure is applied to transfer material from the stamp to the substrate. By decreasing the vacuum applied by the vacuum mold, the elasticity of the stamp may be used to apply this pressure. Pressure also may be applied by applying a force to the substrate and/or the stamp. The use of an elastomeric stamp allows for patterned layers to be deposited on a non-planar substrate with reduced chance of damage to the patterned layer.
(FR)Un tampon élastomère est utilisé pour déposer un matériau sur un substrats non plat. Un moule pour moulage sous vide est utilisé pour déformer le tampon élastomère et une pression est appliquée pour transférer le matériau du tampon au substrat. En réduisant le vide appliqué par le moule pour moulage sous vide, l'élasticité du tampon peut être utilisée pour appliquée cette pression. La pression peut également être appliquée par application d'une force au substrat et/ou au tampon. L'utilisation d'un tampon élastomère permet de déposer des couches à motifs sur un substrat non plat tout en réduisant les risques de dommages à la couche à motifs.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)