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1. (WO2008120716) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT DE STOCKAGE LISIBLE PAR ORDINATEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/120716    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/056082
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 28.03.2008
CIB :
H01L 21/683 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1076325 (JP) (Tous Sauf US).
KONDOH, Keisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KONDOH, Keisuke; (JP)
Mandataire : ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-Chome, Shibuya-Ku, Tokyo 1506032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-095376 30.03.2007 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT DE STOCKAGE LISIBLE PAR ORDINATEUR
(JA) 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ可読記憶媒体
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a substrate processing apparatus wherein a substrate is taken out from inside a carrier placed on a carry in/out port by a substrate transfer section in a transfer chamber, then, the substrate is transferred to a processing module, and processed in the processing module. The substrate processing apparatus is provided with a substrate storing chamber connected to the outer side of the transfer chamber to communicate with the transfer chamber through a transfer port; a first storing shelf arranged in the substrate storing chamber for storing a plurality of substrates for a first storage purpose; a second storage shelf arranged in the substrate storing chamber for storing the substrates for a second storage purpose different from the first storage purpose; and a moving mechanism for moving the first storing shelf and the second storing shelf so that a substrate storing region of either the first storing shelf or the second storing shelf is positioned to transfer the substrate between the substrate storing region and the substrate transfer section through the transfer port.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement de substrat dans lequel un substrat est prélevé de l'intérieur d'un support placé sur un orifice d'entrée/sortie par une section de transfert de substrat dans une chambre de transfert. Puis, le substrat est transféré vers un module de traitement, et traité dans le module de traitement. L'appareil de traitement de substrat comporte une chambre de stockage de substrats raccordée au côté externe de la chambre de transfert pour communiquer avec la chambre de transfert à travers un orifice de transfert ; une première étagère de stockage disposée dans la chambre de stockage de substrats pour stocker une pluralité de substrats pour un premier objectif de stockage ; une seconde étagère de stockage disposée dans la chambre de stockage de substrats pour stocker les substrats pour un second objectif de stockage différent du premier objectif de stockage ; et un mécanisme mobile pour déplacer la première étagère de stockage et la seconde étagère de stockage de telle sorte qu'une région de stockage de substrats de l'une ou l'autre de la première étagère de stockage et de la seconde étagère de stockage est positionnée pour transférer le substrat entre la région de stockage de substrats et la section de transfert de substrat à travers l'orifice de transfert.
(JA) 搬入出ポートに載置されたキャリア内から搬送室内の基板搬送部により基板を取り出して処理モジュールに受け渡し、当該処理モジュール内にて基板の処理を行う基板処理装置が開示される。この基板処理装置は、搬送室の外側に当該搬送室に連通するように搬送口を介して接続された基板保管室と、基板保管室に設けられ、第1の保管目的で複数の基板を保管するための第1の保管棚と、基板保管室に設けられ、第1の保管目的とは異なる第2の保管目的で複数の基板を保管する第2の保管棚と、第1の保管棚及び第2の保管棚のうちの一方の基板保管領域を、当該基板保管領域と基板搬送部との間で搬送口を介して基板の受け渡しができるように位置するために、当該第1の保管棚及び第2の保管棚を移動する移動機構と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)