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1. (WO2008120656) EQUIPEMENT DE GÉNÉRATION DE PLASMA RENDU ÉLECTRIQUEMENT NEUTRE À LA PÉRIPHÉRIE D'UN CANON À PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/120656    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/055841
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 27.03.2008
CIB :
C23C 14/32 (2006.01), H05H 1/32 (2006.01)
Déposants : Ferrotec Corporation [JP/JP]; 4-14, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP) (Tous Sauf US).
SHIINA, Yuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIINA, Yuichi; (JP)
Mandataire : MIKI, Hisami; Haim-Senba 303, 3-8 Kyutaromachi 2-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5410056 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-093356 30.03.2007 JP
Titre (EN) PLASMA GENERATION EQUIPMENT RENDERED ELECTRICALLY NEUTRAL ON THE PERIPHERY OF PLASMA GUN
(FR) EQUIPEMENT DE GÉNÉRATION DE PLASMA RENDU ÉLECTRIQUEMENT NEUTRE À LA PÉRIPHÉRIE D'UN CANON À PLASMA
(JA) プラズマガン周辺を電気的中性にしたプラズマ生成装置
Abrégé : front page image
(EN)Plasma generation equipment having a plasma gun which can remove droplets mixed with plasma efficiently without reducing the effective amount of plasma generated by vacuum arc discharge and in which a droplet removing section can be constituted easily and inexpensively, and precision of surface treatment of films by high purity plasma can be enhanced. Periphery of the cathode (407) of a plasma gun is surrounded by an enclosure member (420) and a droplet remover (406) constituted by laying a plurality of droplet catching members (411) in multilayer is provided on the inside of the enclosure member (420). The enclosure member (420), the catching member (411) and a plasma traveling path (402) have no relation of connection with an arc power supply (409) and held in electrically neutral floating state.
(FR)La présente invention concerne un équipement de génération de plasma présentant un canon à plasma qui peut efficacement éliminer des gouttelettes mélangées au plasma sans réduire la quantité effective de plasma générée par décharge à arc solide et dans lequel une section d'élimination des gouttelettes peut être construite aisément et à moindre coût, et dans lequel la précision du traitement de surface de films par plasma de pureté élevée peut être améliorée. La périphérie de la cathode (407) d'un canon à plasma est entourée par un élément d'enceinte (420) et un élément éliminant les gouttelettes (406) construit en déposant une pluralité d'éléments attrapant les gouttelettes (411) en multicouche se situe à l'intérieur de l'élément d'enceinte (420). L'élément d'enceinte (420), l'élément attrapant les gouttelettes (411) et la voie où circule le plasma (402) n'ont aucune relation de connexion avec une alimentation d'arc (409) et sont maintenus dans un état flottant électriquement neutre.
(JA) プラズマガンにおいて、真空アーク放電により発生させるプラズマの有効量を減退させることなく、プラズマに混入するドロップレットを効率的に除去でき、しかも簡易かつ安価にドロップレット除去部を構成でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図ることのできるプラズマ生成装置を提供する。プラズマガン陰極407の周辺は、外囲部材420によって包囲され、外囲部材420の内側には、ドロップレットを捕集する捕集部材411を複数個、多層状に構成したドロップレット除去装置406が設けられている。外囲部材420、捕集部材411及びプラズマ進行路402は、アーク電源409との接続関係がなく、電気的に中性の浮遊状態に保持されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)