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1. (WO2008120628) APPAREIL DE TRAITEMENT SOUS VIDE, SON PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/120628    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/055680
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 26.03.2008
CIB :
H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAGUCHI, Hirofumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAGUCHI, Hirofumi; (JP)
Mandataire : YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-088021 29.03.2007 JP
Titre (EN) VACUUM TREATING APPARATUS, METHOD OF OPERATING THE SAME AND RECORDING MEDIUM
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT SOUS VIDE, SON PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) 真空処理装置、真空処理装置の運転方法及び記憶媒体
Abrégé : front page image
(EN)In a vacuum treating apparatus including a treating vessel with delivery port adapted to have a vacuum atmosphere and perform treatment by a treating gas and a delivery chamber with vacuum atmosphere connected via a gate chamber to the delivery port of the treating vessel and equipped with delivery means for the pass and receipt of substrate, any diffusion of gas remaining in the treating vessel into the delivery chamber is suppressed. The vacuum treating apparatus comprises the treating vessel, the delivery chamber and a gate valve provided in the gate chamber so that the delivery port is closed when the substrate is treated in the treating vessel while the delivery port is opened when the pass and receipt of substrate for the treating vessel are carried out. In order to suppress any diffusion of gas remaining in the treating vessel into the delivery chamber, the gate chamber is furnished, at its position facing the delivery port, with a gate chamber inert gas supply part and a gate chamber exhaust port adapted to produce a stream of inert gas. This suppresses any diffusion of gas remaining in the treating vessel through the delivery port into the delivery chamber.
(FR)Dans un appareil de traitement sous vide incluant une cuve de traitement pourvue d'un orifice d'amenée adapté pour avoir une atmosphère sous vide et pour effectuer un traitement au moyen d'un gaz de traitement, et une chambre d'amenée dotée d'une atmosphère sous vide connectée via une chambre des vannes à l'orifice d'amenée de la cuve de traitement et équipée de moyens d'amenée pour le passage et la réception d'un substrat, toute diffusion de gaz restant dans la cuve de traitement dans la chambre d'amenée est supprimé. L'appareil de traitement sous vide comprend la cuve de traitement, la chambre d'amenée et un robinet vanne disposé dans la chambre des vannes de manière à ce que l'orifice d'amenée soit fermé lorsque le substrat est traité dans la cuve de traitement tandis que l'orifice d'amenée est ouvert lors du passage et de la réception du substrat dans la cuve de traitement. Afin de supprimer toute diffusion de gaz restant dans la cuve de traitement dans la chambre d'amenée, la chambre des vannes est équipée, dans sa position faisant face à l'orifice d'amenée, d'une partie d'alimentation en gaz inerte de chambre des vannes et d'un orifice d'échappement de chambre des vannes adapté pour produire un courant de gaz inerte. Ceci supprime toute diffusion de gaz restant dans la cuve de traitement au travers de l'orifice d'amenée dans la chambre d'amenée.
(JA) 真空雰囲気をもち処理ガスにより処理を行う搬送口を有する処理容器と、この処理容器の搬送口にゲート室を介して接続され、基板の受け渡しを行う搬送手段を有し、真空雰囲気をもつ搬送室とを備えた真空処理装置において、処理理容器内の残留ガスの搬送室への拡散を抑える。  前記真空処理装置は処理容器と、前記搬送室と、前記ゲート室に設けられ、前記処理容器にて基板の処理を行うときには前記搬送口を閉じ、処理容器に対して基板の受け渡しを行うときには当該搬送口を開くためのゲートバルブとを備えている。ゲート室に、処理容器内の残留ガスの前記搬送室への拡散を抑えるために当該搬送口を臨む位置に不活性ガスの気流を形成するように、ゲート室不活性ガス供給部及びゲート室排気口が設けられている。このことにより、処理容器内の残留ガスが搬送口から搬送室に拡散することが抑えられる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)