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1. (WO2008120412) CANON À ÉLECTRONS ET SYSTÈME D'EXPOSITION À UN FAISCEAU ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/120412    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/069855
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 11.10.2007
CIB :
H01J 37/06 (2006.01), H01J 37/065 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Déposants : ADVANTEST CORPORATION [JP/JP]; 32-1, Asahi-cho 1-chome, Nerima-ku, Tokyo 1790071 (JP) (Tous Sauf US).
Educational Foundation Meijyo University [JP/JP]; 1-501, Shiogamaguchi, Tempaku-ku, Nagoya-shi, Aichi 4688502 (JP) (Tous Sauf US).
YASUDA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HARAGUCHI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMOYAMA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURATA, Hidekazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YASUDA, Hiroshi; (JP).
HARAGUCHI, Takeshi; (JP).
SHIMOYAMA, Hiroshi; (JP).
MURATA, Hidekazu; (JP)
Mandataire : OKAMOTO, Keizo; OKAMOTO PATENT OFFICE Yamanishi Bldg., 4F 11-7, Nihonbashi Ningyo-cho 3-chome Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
Données relatives à la priorité :
PCT/JP2007/056800 29.03.2007 JP
Titre (EN) ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM
(FR) CANON À ÉLECTRONS ET SYSTÈME D'EXPOSITION À UN FAISCEAU ÉLECTRONIQUE
(JA) 電子銃及び電子ビーム露光装置
Abrégé : front page image
(EN)An electron gun and an electron beam exposure system which can be used stably for a long term by decreasing the emission angle of beam while reducing the quantity of sublimation of an electron source. The electron gun comprises an electron source (20), an acceleration electrode (25), a lead-out electrode (21), a suppressor electrode (24), and a section for focusing a beam of electrons emitted by applying an electric field to the electron emission side while sustaining the temperature low enough not to cause sublimation of the material of the electron source. The electron beam focusing section is an electrostatic lens electrode (26), which is arranged between the lead-out electrode and the acceleration electrode and has an opening at the center and a tapered portion that spreads toward the acceleration electrode side.
(FR)L'invention concerne un canon à électrons et un système d'exposition à un faisceau électronique qui peuvent être utilisés de façon stable à long terme par la diminution de l'angle d'émission du faisceau tout en réduisant la quantité de sublimation d'une source d'électrons. Le canon à électrons comprend une source d'électrons (20), une électrode d'accélération (25), une électrode de sortie (21), une électrode de suppresseur (24), et une section pour concentrer un faisceau d'électrons émis par l'application d'un champ électrique du côté d'émission d'électron tout en maintenant la température suffisamment faible pour ne pas provoquer de sublimation du matériau de la source d'électrons. La section de concentration du faisceau électronique est une électrode de lentille électrostatique (26), qui est disposée entre l'électrode de sortie et l'électrode d'accélération et a une ouverture au centre et une partie effilée qui s'étale vers le côté électrode d'accélération.
(JA)本発明は、電子源の昇華量を削減するとともに、ビームの放出角度を小さくして長期間安定に使用することのできる電子銃及び電子ビーム露光装置を提供することを課題とする。 本発明の電子銃は、電子源(20)と、加速電極(25)と、引き出し電極(21)と、サプレッサー電極(24)と、電子源の材料の昇華が発生しない程度の低い温度に保ちながら電子放出面に電界を印加して放出させた熱電界放出電子による電子ビームを収束させる電子ビーム収束部とを有する。電子ビーム収束部は、引き出し電極と加速電極との間に配置され中央に開口部を備えた静電レンズ電極(26)であり、加速電極側に拡がるテーパを有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)