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1. (WO2008120341) CANON À ÉLECTRONS ET SYSTÈME D'EXPOSITION À UN FAISCEAU ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/120341    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/056800
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 29.03.2007
CIB :
H01J 37/065 (2006.01), H01J 3/02 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Déposants : ADVANTEST CORPORATION [JP/JP]; 32-1, Asahi-cho 1-chome, Nerima-ku, Tokyo 1790071 (JP) (Tous Sauf US).
Educational Foundation Meijo University [JP/JP]; 1-501, Shiogamaguchi, Tempaku-ku, Nagoya-shi, Aichi 4688502 (JP) (Tous Sauf US).
YASUDA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HARAGUCHI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMOYAMA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURATA, Hidekazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YASUDA, Hiroshi; (JP).
HARAGUCHI, Takeshi; (JP).
SHIMOYAMA, Hiroshi; (JP).
MURATA, Hidekazu; (JP)
Mandataire : OKAMOTO, Keizo; OKAMOTO PATENT OFFICE Yamanishi Bldg., 4F 11-7, Nihonbashi Ningyo-cho 3-chome Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM
(FR) CANON À ÉLECTRONS ET SYSTÈME D'EXPOSITION À UN FAISCEAU ÉLECTRONIQUE
(JA) 電子銃及び電子ビーム露光装置
Abrégé : front page image
(EN)An electron gun and an electron beam exposure system which can be used stably over a long term by reducing the quantity of sublimation of an electron source and decreasing the emission angle of a beam. The electron gun comprises an electron acceleration section (40), which is arranged to face the electron emission surface of an electron source (20) and has an acceleration electrode (25) for accelerating electrons and a magnetic field generating section (41); an extraction electrode (21) arranged between the electron emission surface and the acceleration electrode in order to extract electrons from the electron emission surface; and a suppressor electrode (24) arranged on the side of the electron emission surface opposite to the extraction electrode in order to suppress emission of electrons from the side face of the electron source. Thermal field emission electrons are emitted by applying an electric field to the electron emission surface while sustaining the temperature low enough not to cause sublimation of material of the electron source.
(FR)L'invention concerne un canon à électrons et un système d'exposition à un faisceau électronique qui peuvent être utilisés de façon stable à long terme par la réduction de la quantité de sublimation d'une source d'électrons et la diminution de l'angle d'émission d'un faisceau. Le canon à électrons comprend une section d'accélération d'électrons (40), qui est disposée pour être opposée à la surface d'émission d'électrons d'une source d'électrons (20) et a une électrode d'accélération (25) pour accélérer les électrons et une section de génération de champ magnétique (41) ; une électrode d'extraction (21) disposée entre la surface d'émission d'électrons et d'électrode d'accélération afin d'extraire des électrons à partir de la surface d'émission d'électrons ; et une électrode suppresseuse (24) disposée sur le côté de la surface d'émission d'électrons opposée à l'électrode d'extraction afin de supprimer l'émission d'électrons à partir de la face latérale de la source d'électrons. Des électrons à émission de champ thermique sont émis par l'application d'un champ électrique à la surface d'émission d'électrons tout en conservant la température suffisamment faible pour ne pas provoquer de sublimation de matériau de la source d'électrons.
(JA)本発明は、電子源の昇華量を削減するとともに、ビームの放出角度を小さくして長期間安定に使用することのできる電子銃及び電子ビーム露光装置を提供することを目的とする。 本発明の電子銃は、電子源(20)の電子放出面と対向して配置され、電子を加速する加速電極(25)と磁界発生部(41)とを備える電子加速部(40)と、電子放出面と加速電極との間に配置され、当該電子放出面から電子を引き出す引き出し電極(21)と、電子放出面の引き出し電極と反対側に配置され、電子源の側面からの電子放出を抑制するサプレッサー電極(24)とを有し、電子源の材料の昇華が発生しない程度の低い温度に保ちながら電子放出面に電界を印加して熱電界放出電子を放出させる
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)