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1. (WO2008119794) SYSTÈME OPTIQUE, EN PARTICULIER DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE OU OBJECTIF DE PROJECTION D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/119794    N° de la demande internationale :    PCT/EP2008/053847
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 31.03.2008
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
TOTZECK, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GRUNER, Toralf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FIOLKA, Damian [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : TOTZECK, Michael; (DE).
GRUNER, Toralf; (DE).
FIOLKA, Damian; (DE)
Mandataire : FRANK, Hartmut; Demski, Frank & Nobbe, Reichspräsidentenstr. 21-25, 45470 Mülheim (DE)
Données relatives à la priorité :
60/909,734 03.04.2007 US
Titre (EN) OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME OPTIQUE, EN PARTICULIER DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE OU OBJECTIF DE PROJECTION D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an optical system, in particular an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a polarization compensator (100, 200, 300, 400, 800, 900), which has at least one polarization-modifying partial element (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), and a manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), by means of which the position of the at least one partial element can be altered, wherein, in the optical system, at least one operating mode (501-504) can be set in which the intensity, over a region which belongs to a plane perpendicular to the optical axis (OA) and which can be illuminated with light from said light source, does not exceed 20% of the maximum intensity in said plane, and wherein the manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) is arranged in said region.
(FR)L'invention concerne un système optique, en particulier un dispositif d'éclairage ou un objectif de projection d'un appareil d'exposition par projection microlithographique, comprenant un compensateur de polarisation (100, 200, 300, 400, 800, 900), qui a au moins un élément partiel de modification de polarisation (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), et un manipulateur (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), au moyen duquel la position du ou des éléments partiels peut être modifiée. Selon l'invention, dans le système optique, au moins un mode de fonctionnement (501-504) peut être réglé, dans lequel l'intensité, sur une région qui appartient à un plan perpendiculaire à l'axe optique (OA) et qui peut être éclairée par de la lumière provenant de ladite source de lumière, ne dépasse pas 20% de l'intensité maximale dans ledit plan, et le manipulateur (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) est disposé dans ladite région.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)