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1. (WO2008119636) TEXTILE POSSÉDANT UN POUVOIR NETTOYANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/119636    N° de la demande internationale :    PCT/EP2008/052997
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 13.03.2008
CIB :
C11D 3/12 (2006.01), C11D 3/48 (2006.01), C11D 17/04 (2006.01), C11D 3/20 (2006.01), C11D 1/66 (2006.01), C11D 3/22 (2006.01), C11D 3/32 (2006.01)
Déposants : HENKEL AG & CO. KGAA [DE/DE]; Henkelstr. 67, 40589 Düsseldorf (DE) (Tous Sauf US).
MÜLLER-KIRSCHBAUM, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MEINE, Georg [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : MÜLLER-KIRSCHBAUM, Thomas; (DE).
MEINE, Georg; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2007 016 201.6 02.04.2007 DE
Titre (DE) TEXTILES FLÄCHENGEBILDE MIT REINIGUNGSVERMÖGEN
(EN) TEXTILE FABRIC WITH CLEANING CAPACITY
(FR) TEXTILE POSSÉDANT UN POUVOIR NETTOYANT
Abrégé : front page image
(DE)Es werden textiles Substrate, z.B. Vliese, mit Reinigungsvermögen beschrieben, die mit einer speziellen Zusammensetzung beaufschlagt, getränkt, beschichtet und/oder imprägniert sind. Diese Substrate eignen sich sehr gut zur Reinigung, Behandlung und/oder antimikrobiellen Ausrüstung harter Oberflächen und von Textilien, wobei die Wirkung von Licht ausgenutzt wird. Sie eignen sich auch sehr gut zum Entfernen von Staub von einer Oberfläche. Die Substrate können auch in maschinellen Textilwasch- und trocknungsverfahren mit gutem Erfolg eingesetzt werden. Ein besonderer Vorteil der beschriebenen textilen Flächengebilde liegt darin, dass sie unter Wirkung von Licht über Selbstreinigungskräfte verfügen.
(EN)The invention relates to textile substrates, e.g., nonwoven fabrics, with cleaning capacity, which are supplied, saturated, coated, and/or impregnated with a special composition. Said substrates are very well suited to the cleaning, treatment, and/or antimicrobial finishing of hard surfaces and of textiles, wherein the effect of light is exploited. Said substrates are also very well suited to the removal of dust from a surface. The substrates also can be used successfully in methods for the machine washing and machine drying of textiles. A particular advantage of the textile fabrics described is that said fabrics when subjected to light have self-cleaning powers.
(FR)L'invention concerne des substrats textiles, p. ex. des non-tissés, possédant un pouvoir nettoyant, ces substrats étant sollicités, saturés, enduits et/ou imprégnés au moyen d'une composition spéciale. Lesdits substrats sont particulièrement adaptés pour nettoyer et/ou traiter des surfaces dures et des textiles et/ou leur conférer des propriétés antimicrobiennes, l'action de la lumière étant utilisée. Les substrats selon l'invention sont particulièrement adaptés également pour enlever la poussière d'une surface. Ils peuvent être mis en oeuvre également avec succès dans des procédés de lavage et de séchage de textiles en machine. Les textiles décrits présentent en particulier l'avantage de posséder des propriétés autonettoyantes sous l'action de la lumière.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)