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1. (WO2008119141) INSTALLATION INTEGREE POUR LA PRODUCTION DE NANOPARTICULES DANS DES CONDITIONS DE RISQUE MAITRISE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/119141    N° de la demande internationale :    PCT/BE2008/000020
Date de publication : 09.10.2008 Date de dépôt international : 26.03.2008
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.01.2009    
CIB :
B01J 19/08 (2006.01), B82B 3/00 (2006.01)
Déposants : NANOPOLE S.A. [BE/BE]; "Liège Science Park", Rue du Bois Saint Jean 23, B-4102 Seraing (BE) (Tous Sauf US).
VANDECASSERIE, Christian [BE/BE]; (BE) (US Seulement).
SALMON, Jean [BE/BE]; (BE) (US Seulement)
Inventeurs : VANDECASSERIE, Christian; (BE).
SALMON, Jean; (BE)
Mandataire : GROUPEMENT DE MANDATAIRES 'pronovem'; Pronovem - Office Van Malderen, Bld de la Sauvenière 85/043, B-4000 Liege (BE)
Données relatives à la priorité :
60/909,039 30.03.2007 US
07447048.5 03.08.2007 EP
Titre (EN) INTEGRAL INSTALLATION FOR PRODUCING NANOPARTICLES IN CONTROLLED RISK CONDITIONS
(FR) INSTALLATION INTEGREE POUR LA PRODUCTION DE NANOPARTICULES DANS DES CONDITIONS DE RISQUE MAITRISE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an integral installation for producing and treating nanoparticles in the form of nanopowders, in controlled risk conditions for operators and the environment, said installation comprising closed means for producing, filtering and collecting said nanopowders, in a confined zone (20) comprising a plurality of areas (23,24,25,26,27), at least under partial depression in relation to the environment (100) outside said zone. The invention is characterised in that the various areas (23,24,25,26,27) forming the confined zone (20) are respectively subjected to a series of cascaded depressions, in relation to a reference pressure, according to the required degree of protection for the operators and the environment.
(FR)La présente invention se rapporte à une installation intégrée pour la production et le traitement de nanoparticules sous la forme de nanopoudres, dans des conditions de risque maîtrisé pour des opérateurs et pour l'environnement, comprenant des moyens fermés de fabrication, de filtration et de collecte desdites nanopoudres, dans une zone confinée (20) comprenant une pluralité de locaux (23,24,25,26,27) et en dépression au moins partielle par rapport à l'environnement extérieur (100) à ladite zone, caractérisée en ce que les différents locaux (23,24,25,26,27) constitutifs de ladite zone confinée (20) sont respectivement soumis à une série de dépressions en cascade, par rapport à une pression de référence, en fonction du degré de protection nécessaire pour les opérateurs et l'environnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)