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1. (WO2008118853) EQUIPEMENT DE TRAITEMENT BIPOLAIRE UTILISÉ POUR TRAITER DES CELLULES CIBLES AVEC DES IONS POSITIFS ET DES IONS NÉGATIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/118853    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/058009
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 24.03.2008
CIB :
H01J 1/50 (2006.01)
Déposants : NANOLIFE HOLDINGS, LLC [US/US]; 23 Corporate Plaza Newport Beach, CA 92660 (US) (Tous Sauf US).
WELCH, Larry [US/US]; (US) (US Seulement).
WINN, Ray [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WELCH, Larry; (US).
WINN, Ray; (US)
Mandataire : SAYED, Hani; Rutan & Tucker LLP, 611 Anton Blvd., 14th Floor, Costa Mesa, CA 92626 (US)
Données relatives à la priorité :
11/690,565 23.03.2007 US
Titre (EN) A BI-POLAR TREATMENT FACILITY FOR TREATING TARGET CELLS WITH BOTH POSITIVE AND NEGATIVE IONS
(FR) EQUIPEMENT DE TRAITEMENT BIPOLAIRE UTILISÉ POUR TRAITER DES CELLULES CIBLES AVEC DES IONS POSITIFS ET DES IONS NÉGATIFS
Abrégé : front page image
(EN)A system for treating target cells with both positive and negative ions comprises a bi-polar beam delivery system configured to create and deliver both positive ion beams and negative ion beams. The bi-polar beam delivery system comprises a bi-polar accelerator configured to accelerate positive and negative ions in the same direction making such a bi-polar bema delivery system practical.
(FR)Cette invention se rapporte à un système permettant de traiter des cellules cibles avec des ions positifs et des ions négatifs, ledit système comprenant un système émettant un faisceau bipolaire configuré pour créer et diffuser des faisceaux d'ions positifs et des faisceaux d'ions négatifs. Le système émettant un faisceau bipolaire comprend un accélérateur bipolaire configuré pour accélérer les ions positifs et les ions négatifs dans la même direction, ce qui permet au système émetteur de faisceau bipolaire d'être pratique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)