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1. (WO2008118634) ADDITIF ARRÊTANT LES AMINES POUR MATÉRIAUX UTILISÉS DANS DES PROCESSUS PHOTOLITHOGRAPHIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/118634    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/056536
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 11.03.2008
CIB :
H01L 21/4763 (2006.01), C08G 18/80 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Déposants : BREWER SCIENCE INC. [US/US]; 2401 Brewer Drive, Rolla, MO 65401 (US) (Tous Sauf US).
WEIMER, Marc, W. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WEIMER, Marc, W.; (US)
Mandataire : BORNMAN, Tracy, L.; Hovey Williams LLP, 10801 Mastin Boulevard Suite 1000, 84 Corporate Woods, Overland Park, KS 66210 (US)
Données relatives à la priorité :
60/894,398 12.03.2007 US
12/043,623 06.03.2008 US
Titre (EN) AMINE-ARRESTING ADDITIVES FOR MATERIALS USED IN PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESSES
(FR) ADDITIF ARRÊTANT LES AMINES POUR MATÉRIAUX UTILISÉS DANS DES PROCESSUS PHOTOLITHOGRAPHIQUES
Abrégé : front page image
(EN)Novel, poison-blocking compositions and methods of using those compositions to form poison-blocking layers are provided. The compositions comprise a typical composition used in micralithographic processes, but with a poison-blocking additive included in that composition. The preferred additive is a compound comprising one or more blocked isocyanates. Upon heating to certain temperatures, the blocking group is released from the isocyanatc, leaving behind a moiety that is highly reactive with the poisonous amines generated by typical dielectric layers.
(FR)L'invention concerne des compositions novatrices bloquant les poisons et des procédés d'utilisation de ces compositions pour former des couches bloquant les poisons. Les compositions comprennent une composition typique utilisée dans des processus microlithographiques, mais avec un additif bloquant les poisons inclus dans cette composition. L'additif préféré est un composé comprenant un ou plusieurs isocyanates bloqués. Lors du chauffage à certaines températures, le groupe bloquant est libéré de l'isocyanate, libérant une fraction hautement réactive avec des amines toxiques générées pour des couches diélectriques typiques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)