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1. (WO2008118536) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE DES NANOPARTICULES ACTIVES EN VERRE PAR ABLATION LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/118536    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/052846
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 01.02.2008
CIB :
B82B 3/00 (2006.01)
Déposants : THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street, 12th Floor, Oakland, CA 94607 (US) (Tous Sauf US).
HIROMATSU, Kuniaki [JP/US]; (JP) (US Seulement).
HWANG, David, Jen [US/US]; (US) (US Seulement).
GRIGOROPOULOS, Costas, P. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HIROMATSU, Kuniaki; (JP).
HWANG, David, Jen; (US).
GRIGOROPOULOS, Costas, P.; (US)
Mandataire : O'BANION, John, P.; O'banion & Ritchey LLP, 400 Capitol Mall, Suite 1550, Sacramento, CA 95814 (US)
Données relatives à la priorité :
60/887,872 02.02.2007 US
60/888,688 07.02.2007 US
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING ACTIVE GLASS NANOPARTICLES BY LASER ABLATION
(FR) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE DES NANOPARTICULES ACTIVES EN VERRE PAR ABLATION LASER
Abrégé : front page image
(EN)A method for producing active glass nanoparticles that exhibit upconversion is described. The method employs pulsed-laser ablation of an active glass substrate using, for example, a high repetition rate ultra-short pulse duration laser under normal atmospheric conditions or in a liquid environment.
(FR)L'invention concerne un procédé pour produire des nanoparticules actives en verre qui présente une conversion à la hausse. Le procédé emploie une ablation laser pulsé d'un substrat en verre actif utilisant, par exemple, un laser de durée d'impulsion ultracourte à vitesse de répétition élevée dans des conditions atmosphériques normales ou dans un environnement liquide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)