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1. (WO2008118533) PROCÉDÉ POUR DÉPOSER DES NANOPARTICULES ET DES FILMS D'OXYDE DE TITANE CRISTALLIN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/118533    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/052544
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 31.01.2008
CIB :
C23C 20/04 (2006.01)
Déposants : IMRA AMERICA, INC. [US/US]; 1044 Woodridge Avenue, Ann Arbor, Michigan 48105 (US) (Tous Sauf US).
HU, Zhendong [US/US]; (US) (US Seulement).
CHE, Yong [CN/US]; (US) (US Seulement).
LIU, Bing [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HU, Zhendong; (US).
CHE, Yong; (US).
LIU, Bing; (US)
Mandataire : TURNER, Richard, C.; Sughrue Mion, PLLC, 2100 Pennsylvania Ave., N.W., Suite 800, Washington, District of Columbia 20037-3213 (US)
Données relatives à la priorité :
60/899,892 07.02.2007 US
11/798,114 10.05.2007 US
Titre (EN) A METHOD FOR DEPOSITING CRYSTALLINE TITANIA NANOPARTICLES AND FILMS
(FR) PROCÉDÉ POUR DÉPOSER DES NANOPARTICULES ET DES FILMS D'OXYDE DE TITANE CRISTALLIN
Abrégé : front page image
(EN)A one-step and room-temperature process for depositing nanoparticles or nanocomposite (nanoparticle-assembled) films of metal oxides such as crystalline titanium dioxide (TiO2) onto a substrate surface using ultrafast pulsed laser ablation of Titania or metal titanium target. The system includes a pulsed laser with a pulse duration ranging from a few femtoseconds to a few tens of picoseconds, an optical setup for processing the laser beam such that the beam is focused onto the target surface with an appropriate average energy density and an appropriate energy density distribution, and a vacuum chamber in which the target and the substrate are installed and background gases and their pressures are appropriately adjusted.
(FR)L'invention concerne un procédé à une étape et à température ambiante permettant de déposer des nanoparticules ou des films de nanocomposite (assemblés par nanoparticule) d'oxydes de métaux tels que du dioxyde de titane (TiO2) alcalin sur une surface de substrat utilisant l'ablation laser pulsé ultrarapide d'une cible en oxyde de titane ou en titane métallique. Le système comporte un laser pulsé d'une durée de pulvérisation allant de quelques photosecondes à quelques dizaines de picosecondes; un réglage optique pour traiter le faisceau laser de telle sorte que le faisceau soit focalisé sur la surface cible à une densité d'énergie moyenne et une distribution de densité d'énergie appropriées; et une chambre à vide dans laquelle la cible et le substrat sont installés et la pression de gaz de fond ajustée de manière appropriée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)