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1. (WO2008118483) POMME DE DOUCHE POUR APPAREIL DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR (CVD)
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/118483    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/004002
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 27.03.2008
CIB :
C08J 7/06 (2006.01), B05D 5/12 (2006.01)
Déposants : STRUCTURED MATERIALS INC. [US/US]; Unit 102/103, 201 Circle Drive N., Piscataway, NJ 08854 (US) (Tous Sauf US).
TOMPA, Gary, S. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : TOMPA, Gary, S.; (US)
Mandataire : BOTJER, William, L.; PO Box 478, Center Moriches, NY 11934 (US)
Données relatives à la priorité :
60/920,125 27.03.2007 US
Titre (EN) SHOWERHEAD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (CVD) APPARATUS
(FR) POMME DE DOUCHE POUR APPAREIL DE DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR (CVD)
Abrégé : front page image
(EN)A reactant vapor distribution assembly for Chemical Vapor Deposition (CVD) apparatus which includes an upper flange which has a plenum disposed on its lower face and vapor injectors for injecting reactant vapors into the plenum. The distribution assembly also includes a lower flange having a peripheral rim surrounding a lower wall and a plenum on its upper face, certain of the vapor injectors are used to inject reactant vapors into this plenum. The lower flange includes fluid channels bored in the lower wall beneath the plenum and a number of gas flow openings bored in the lower wall of the lower flange to permit the precursor gases to flow from the plenum into the deposition chamber. The fluid channels may be used to heat or cool the flange. The lower flange has no welds or joints facing the hostile environment of the deposition chamber and all critical parts of the lower flange may be formed from a single billet of material.
(FR)L'invention concerne une structure de distribution de vapeur réactive pour un appareil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), ladite structure comprenant une collerette supérieure qui présente un plénum disposé sur sa face inférieure et des injecteurs de vapeur destinés à injecter des vapeurs réactives dans le plénum. La structure de distribution comprend également une collerette inférieure possédant un bord périphérique entourant une paroi inférieure et un plénum sur sa face supérieure. Certains des injecteurs de vapeur sont utilisés pour injecter des vapeurs réactives dans ce plénum. La collerette inférieure comprend des canaux de liquide percés dans la paroi inférieure située sous le plénum et plusieurs orifices de passage de gaz percés dans la paroi inférieure de la collerette inférieure, afin de permettre aux gaz précurseurs de s'écouler depuis le plénum jusque dans la chambre de dépôt. Les canaux de liquide peuvent être utilisés pour chauffer ou refroidir la collerette. La collerette inférieure ne présente pas de soudures ou de joints exposés à l'environnement hostile de la chambre de dépôt, et toutes les parties critiques de la collerette inférieure peuvent être constituées d'une seule billette de matériau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)