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1. (WO2008118341) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FORMER UN MOTIF DE MATÉRIAU FONCTIONNEL AU MOYEN D'UN TAMPON POSSÉDANT UN MATÉRIAU DE MODIFICATION DE LA SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/118341    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/003685
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 20.03.2008
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street, Wilmington, Delaware 19898 (US) (Tous Sauf US).
BLANCHET, Graciela, Beatriz [US/US]; (US) (US Seulement).
LEE, Hee Hyun [KR/US]; (US) (US Seulement).
JAYCOX, Gary, Delmar [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BLANCHET, Graciela, Beatriz; (US).
LEE, Hee Hyun; (US).
JAYCOX, Gary, Delmar; (US)
Mandataire : MAGEE, Thomas, H.; E. I. du Pont de Nemours and Company, Legal Patent Records Center, 4417 Lancaster Pike, Wilmington, Delaware 19805 (US)
Données relatives à la priorité :
11/726,770 22.03.2007 US
Titre (EN) METHOD TO FORM A PATTERN OF FUNCTIONAL MATERIAL ON A SUBSTRATE USING A STAMP HAVING A SURFACE MODIFYING MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FORMER UN MOTIF DE MATÉRIAU FONCTIONNEL AU MOYEN D'UN TAMPON POSSÉDANT UN MATÉRIAU DE MODIFICATION DE LA SURFACE
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a method to form a pattern of functional material on a substrate. The method uses an elastomeric stamp having a relief structure with a raised surface and having a modulus of elasticity of at least 10 MegaPascal. A surface modifying material is applied to the relief structure and forms a layer at least on the raised surface. A composition of the functional material and a liquid is applied to the layer of the surface modifying material on the relief structure and the liquid is removed to form a film. The elastomeric stamp transfers the functional material from the raised surface to the substrate to form a pattern of the functional material on the substrate. The method is suitable for the fabrication of microcircuitry for electronic devices and components.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de former un motif de matériau fonctionnel sur un substrat. Le procédé utilise un tampon élastomère possédant une structure en relief pourvue d'une surface surélevée et possédant un module d'élasticité d'au moins 10 MegaPascal. Un matériau de modification de la surface est appliqué à la structure en relief et forme une couche au moins sur la surface surélevée. Une composition du matériau fonctionnel et d'un liquide est appliquée à la couche du matériau de modification de la surface sur la structure en relief et le liquide est éliminé pour former un film. Le tampon élastomère transfère le matériau fonctionnel depuis la surface surélevée jusqu'au substrat pour former un motif du matériau fonctionnel sur le substrat. Le procédé convient à la fabrication de microcircuits pour dispositifs électroniques et composants.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)