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1. (WO2008118203) SOURCE D'IONS DE DÉRIVE FERMÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/118203    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/081934
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 19.10.2007
CIB :
H01J 27/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED PROCESS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 546 E. 25th Street, Tucson, AZ 85713 (US) (Tous Sauf US).
MADOCKS, John [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MADOCKS, John; (US)
Mandataire : OREMLAND, Lawrence, R.; Lawrence R. Oremland, P.C., 5055 E. Broadway Blvd., Suite C-214, Tucson, AZ 85711 (US)
Données relatives à la priorité :
60/852,926 19.10.2006 US
Titre (EN) CLOSED DRIFT ION SOURCE
(FR) SOURCE D'IONS DE DÉRIVE FERMÉE
Abrégé : front page image
(EN)A closed drift ion source is provided, having an anode that serves as both the center magnetic pole and as the electrical anode. The anode has an insulating material cap that produces a closed drift region to further increase the electrical impedance of the source. The ion source can be configured as a round, conventional ion source for space thruster applications or as a long, linear ion source for uniformly treating large area substrates. A particularly useful implementation uses the present invention as an anode for a magnetron sputter process.
(FR)L'invention concerne une source d'ions de dérive fermée ayant une anode qui sert à la fois de pôle magnétique central et d'anode électrique. L'anode a un bouchon de matériau isolant qui produit une région de dérive fermée pour accroître davantage l'impédance électrique de la source. La source d'ions peut être configurée comme une source d'ions ronde et classique pour des applications dans des propulseurs spatiaux ou comme une source d'ions linéaire longue pour traiter uniformément des substrats de grande superficie. Une mise en œuvre particulièrement utile utilise la présente invention comme anode pour un procédé de pulvérisation pour magnétrons.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)