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1. (WO2008117997) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'IMPRESSION SÉRIGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117997    N° de la demande internationale :    PCT/KR2008/001734
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 27.03.2008
CIB :
H05K 3/12 (2006.01)
Déposants : PSM Inc. [KR/KR]; #707 SKn-Technopark Megasenta 190-1, Sangdaewon-dong Jungwon-gu Seongnam-si, Gyeonggi-do 462-721 (KR) (Tous Sauf US).
LEE, Keun-Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Byung Kuk [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Hae-Ryong [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
HONG, Jung Mi [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
YOO, Yong-Jong [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
BEAK, Jong Mun [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Keun-Ho; (KR).
KIM, Byung Kuk; (KR).
LEE, Hae-Ryong; (KR).
HONG, Jung Mi; (KR).
YOO, Yong-Jong; (KR).
BEAK, Jong Mun; (KR)
Mandataire : KIM, Han; 2F Nova B/D. 641-3 Yeoksam-dong Kangnam-gu, Seoul 135-909 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2007-0029535 27.03.2007 KR
Titre (EN) A SCREEN PRINTING METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'IMPRESSION SÉRIGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)There is provided a screen printing method including a plasma cleaning process. The screen printing method, whereby a desired pattern is formed by applying a photosensitive material 9 on a metal mesh 7 and the pattern is transferred onto a transfer substrate 1 by flowing a transfer material 10 from the metal mesh 7 contacting the transfer substrate 1 by using a squeezee 11, includes at least one of the steps of performing plasma processing of the transfer substrate 1 before transferring the pattern onto the transfer substrate 1; performing plasma processing of a wire of the metal mesh 7 before applying the photosensitive material 9 on the metal mesh 7; and performing plasma processing of the wire of the metal mesh 7 after forming the pattern on the metal mesh 7. In accordance with the present invention, a fine pattern is fabricated when fabricating a circuit pattern of a printed circuit board.
(FR)L'invention concerne un procédé d'impression sérigraphique qui comprend un traitement de nettoyage au plasma. Le procédé d'impression sérigraphique, qui consiste à former un motif voulu par l'application d'une matière photosensible (9) sur un écran métallique (7), et à transférer le motif sur un substrat de transfert (1) en faisant couler une matière de transfert (10) provenant de l'écran métallique (7) en contact avec le substrat de transfert (1) au moyen d'une racle (11), comporte au moins une des étapes consistant à : soumettre le substrat de transfert (1) à un traitement au plasma avant de transférer le motif sur ledit substrat (1); soumettre la toile de l'écran métallique (7) à un traitement au plasma avant d'appliquer la matière photosensible (9) sur ledit écran (7); et soumettre la toile de l'écran métallique (7) à un traitement au plasma après avoir formé le motif sur ledit écran (7). L'invention permet de fabriquer un motif fin lors de la fabrication du motif de circuit d'une carte à circuit imprimé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)