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1. (WO2008117780) AGENT POUR EMPÊCHER LE DÉPÔT D'UNE TEINTURE CONTENANT DE LA SILICE ET PROCÉDÉ POUR EMPÊCHER LE DÉPÔT D'UNE TEINTURE CONTENANT DE LA SILICE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117780    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/055444
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 24.03.2008
CIB :
C09K 3/00 (2006.01), C02F 5/00 (2006.01), C02F 5/10 (2006.01), C08F 220/06 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), C08F 236/14 (2006.01)
Déposants : Kurita Water Industries Ltd. [JP/JP]; 4-7, Nishi-Shinjyuku 3-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1608383 (JP) (Tous Sauf US).
JSR CORPORATION [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome, Chuou-ku, Tokyo 1040045 (JP) (Tous Sauf US).
FUJITA, Kazuhisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIDA, Ikuko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MAEDA, Mario [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
BESSYO, Keiichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKIYAMA, Hirofumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJITA, Kazuhisa; (JP).
NISHIDA, Ikuko; (JP).
MAEDA, Mario; (JP).
BESSYO, Keiichi; (JP).
SAKIYAMA, Hirofumi; (JP)
Mandataire : WATANABE, Kaoru; KUNPU INTELLECTUAL PROPERTY AGENTSSUCCESS-SENGAKUJI BLDG. 3F 2-20-29, Takanawa, Minato-ku Tokyo 1080074 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-081337 27.03.2007 JP
Titre (EN) AGENT FOR PREVENTION OF DEPOSITION OF SILICA-CONTAINING STAIN, AND METHOD FOR PREVENTION OF DEPOSITION OF SILICA-CONTAINING STAIN
(FR) AGENT POUR EMPÊCHER LE DÉPÔT D'UNE TEINTURE CONTENANT DE LA SILICE ET PROCÉDÉ POUR EMPÊCHER LE DÉPÔT D'UNE TEINTURE CONTENANT DE LA SILICE
(JA) シリカ系汚れ防止剤及びシリカ系汚れ防止方法
Abrégé : front page image
(EN)[PROBLEMS] To prevent the deposition of a silica-containing stain which is formed in a cooling water system, a boiler water system, a membrane treatment apparatus or the like. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] Disclosed is an agent for preventing the deposition of a silica-containing stain, which comprises a polymer produced by the copolymerization of a monomer having a carboxyl group, an isoprene sulfonic acid monomer represented by the formula (1) and a monomer having an unsubstituted or substituted acrylamide represented by the formula (2). The agent can prevent the deposition of a silica-containing stain efficiently. (1) (2)
(FR)L'invention vise à empêcher le dépôt d'une teinture contenant de la silice qui est formée dans un système d'eau de refroidissement, un système d'eau de chaudière, un appareil de traitement à membrane ou un appareil similaire. Un agent pour empêcher le dépôt d'une teinture contenant de la silice est décrit, lequel agent comportant un polymère produit par la copolymérisation d'un monomère ayant un groupe carboxyle, un monomère d'acide isoprène sulfonique représenté par la formule (1), et un monomère ayant un acrylamide non substitué ou substitué représenté par la formule (2). L'agent peut empêcher efficacement le dépôt d'une teinture contenant de la silice. (1) (2)
(JA)【課題】冷却水系やボイラ水系や膜処理装置等で発生するシリカ系汚れを防止すること。 【解決手段】カルボキシル基を有するモノマーと、下記式(1)で表されるイソプレンスルホン酸モノマーと、下記式(2)で表される非置換又は置換アクリルアミドを有するモノマーと、を共重合して得られるポリマーを含有するシリカ系汚れ防止剤とすることで、シリカ系の汚れを効率よく防止することができる。    
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)