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1. (WO2008117719) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'IRRÉGULARITÉS DE SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117719    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/055092
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 19.03.2008
CIB :
G02B 5/02 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), B29C 33/42 (2006.01), G02B 3/00 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G02F 1/13357 (2006.01), B29L 11/00 (2006.01)
Déposants : KIMOTO CO., LTD. [JP/JP]; 19-1, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP) (Tous Sauf US).
ETORI, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ETORI, Hideki; (JP)
Mandataire : TADA, Kimiko; Gloria Building 9F, 6-15, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-078291 26.03.2007 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SURFACE UNEVENNESS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'IRRÉGULARITÉS DE SURFACE
(JA) 表面凹凸の作製方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing surface unevenness, by which a desired uneven shape can be formed easily at a high accuracy by using a photomask. On one side of a photosensitive film (10) composed of a photosensitive resin composite, a mask member (20) having a light permeable section and a non light permeable section is arranged at an interval from the photosensitive film (10), and a light diffusing member (30) is arranged on the side opposite to the photosensitive film (10) of the mask member (20). Light is applied from a light source arranged on the side opposite to the mask member (20) of the light diffusing member (30), and a photosensitive film (10) is exposed through the light diffusing member (30) and the light permeable section of the mask member (20). An exposed section or unexposed section of the photosensitive film (10) is removed by development, and unevenness determined by the shape of the exposed section or the unexposed section is formed on the photosensitive film (10). In the exposure, exposure conditions such as haze of the light diffusing member (30) are controlled, and the shape of the exposed section or the unexposed section is controlled.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'irrégularités de surface par l'intermédiaire duquel la forme irrégulière souhaitée peut être formée facilement à une précision élevée en utilisant un masque. Sur un côté d'un film photosensible (10) constitué d'un composite de résine photosensible, un élément de masque (20) ayant une section perméable à la lumière et une section non perméable à la lumière est agencé à un intervalle par rapport au film photosensible (10), et un élément de diffusion de lumière (30) est agencé sur le côté opposé au film photosensible (10) de l'élément de masque (20). De la lumière est appliquée à partir d'une source de lumière agencée sur le côté opposé à l'élément de masque (20) de l'élément de diffusion de lumière (30), et un film photosensible (10) est exposé à travers l'élément de diffusion de lumière (30) et la section perméable à la lumière de l'élément de masque (20). Une section exposée ou une section non exposée du film photosensible (10) est enlevée par un développement, et une irrégularité déterminée par la forme de la section exposée ou de la section non exposée est formée sur le film photosensible (10). Lors de l'exposition, des conditions d'exposition, comme le voile de l'élément de diffusion de lumière (30), sont régulées et la forme de la section exposée ou de la section non exposée est ainsi commandée.
(JA) フォトマスクを用い、容易かつ高精度に所望の凹凸形状を形成することが可能な表面凹凸の作製方法を提供する。  感光性樹脂組成物からなる感光膜10の一方の側に、光透過部と光不透過部とを有するマスク部材20を感光膜10に対し間隔を持って配置し、マスク部材20の感光膜10とは反対側に光拡散部材30を配置する。光拡散部材30のマスク部材20とは反対側に配置された光源から光を照射し、光拡散部材30とマスク部材20の光透過部を通して感光膜10を露光する。感光膜10の露光部或いは未露光部を現像により除去し、感光膜10に露光部或いは未露光部の形状で決まる凹凸を作製する。露光する際に、光拡散部材30のヘーズなどの露光条件を制御し、露光部或いは未露光部の形状を制御する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)