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1. (WO2008117652) FILM ANTIREFLET, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ANTIREFLET, PLAQUE DE POLARISATION UTILISANT LE FILM ANTIREFLET ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117652    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/054287
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 10.03.2008
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (Tous Sauf US).
OKANO, Satoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OKANO, Satoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-084414 28.03.2007 JP
Titre (EN) ANTI-REFLECTION FILM, METHOD FOR PRODUCTION OF ANTI-REFLECTION FILM, POLARIZING PLATE USING THE ANTI-REFLECTION FILM, AND DISPLAY DEVICE
(FR) FILM ANTIREFLET, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ANTIREFLET, PLAQUE DE POLARISATION UTILISANT LE FILM ANTIREFLET ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 反射防止フィルム、及び反射防止フィルムの製造方法、それを用いた偏光板、及び表示装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are: an anti-reflection film which can achieve the improvement in chemical resistance, close adhesion property and film strength (scratch resistance) after a duration test under high temperature/high humidity conditions by employing an anti-reflection layer comprising one low-refractive-index layer, and which can be produced at low cost; a polarizing plate using the anti-reflection film; and a display device. In the anti-reflection film, the low-refractive-index layer comprises at least one hollow silica microparticle whose inside is porous or hollow, and has a pH value of 2.0 to 7.5, preferably 2.0 to 4.0, at its surface (film surface). Preferably, the pH value at the surface (film surface) of the low-refractive-index layer is measured after immersing for two hours in a 50°C hot bath. The low-refractive-index layer preferably comprises a reactive modified silicone resin or an imidazole or a derivative thereof.
(FR)L'invention porte sur un film antireflet qui peut réaliser une amélioration de la résistance chimique, de la propriété d'adhésion étroite et de la résistance de film (résistance aux rayures) après un test d'endurance dans des conditions de température élevée/humidité élevée par emploi d'une couche antireflet comprenant une couche à indice de réfraction faible, et qui peut être produit à faible coût; sur une plaque de polarisation utilisant le film antireflet, et sur un dispositif d'affichage. Dans le film antireflet, la couche à indice de réfraction faible comprend au moins une microparticule de silice creuse, dont l'intérieur est poreux ou creux, et présente une valeur de pH de 2,0 à 7,5, de préférence de 2,0 à 4,0, à sa surface (surface de film). De préférence, la valeur de pH à la surface (surface de film) de la couche à indice de réfraction faible est mesurée après immersion pendant deux heures dans un bain chaud à 50°C. La couche à indice de réfraction faible comprend, de préférence, une résine de silicone modifiée pour être réactive ou un imidazole ou un dérivé de celui-ci.
(JA) 本発明は、高温高湿下による耐久試験後の耐薬品性、密着性、及び膜強度(耐擦傷性)アップを、1層の低屈折率層よりなる反射防止層で達成でき、低コスト性にも優れる反射防止フィルム、それを用いた偏光板、及び表示装置を提供する。この反射防止フィルムは、低屈折率層が、内部が多孔質または空洞である少なくとも1種の中空シリカ微粒子を含有し、かつ低屈折率層の表面(膜面)pHが2.0~7.5、好ましくは2.0~4.0である。好ましくは低屈折率層の表面(膜面)pHの測定条件が、50°C温浴における2時間浸漬後である。低屈折率層が反応性変性シリコーン樹脂、またはイミダゾールもしくはその誘導体を含有することが好ましい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)