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1. (WO2008117444) PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT D'UNE POSITION D'EXPOSITION POUR UN PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117444    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/056409
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 27.03.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 1-1, Kamikodanaka 4-chome, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2118588 (JP) (Tous Sauf US).
FUJITA, Mutsumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJITA, Mutsumi; (JP)
Mandataire : WATANUKI, Takao; Cre-A Center Bldg. 12-9, Nakagosho 3-chome Nagano-shi, Nagano 3800935 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR ALIGNING EXPOSURE POSITION FOR LITHOGRAPHY PROCESSING
(FR) PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT D'UNE POSITION D'EXPOSITION POUR UN PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE
(JA) リソグラフィ処理の露光位置アライメント方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for aligning the exposure position for lithography processing, in which an effective feedback method can be determined with regard to adjustment of the exposure position, based on the achievement of lithography processing performed in the past. A simulation step for calculating a virtual offset set value for each virtual lot and an amount of estimated positional shift of a lithography pattern, based on an actual offset set value and an actual amount of positional shift, by assuming that the offset set values of exposure processing for each of lots are determined in sequence by feeding back the offset set value of exposure position in preceding i lots and an amount of positional shift of a lithography pattern after lithography processing, and a step for calculating the deviation of the estimated amount of positional shift between respective virtual lots are performed a plurality of times while varying the value of i. Thus, the optimal number i of feedback lots where the deviation becomes minimum out of a plurality of i is obtained.
(FR)L'invention concerne un procédé d'alignement de la position d'exposition pour un procédé de lithographie, dans lequel un procédé de rétroaction efficace peut être déterminé par rapport à un ajustement de la position d'exposition, sur la base de l'accomplissement d'un procédé de lithographie réalisé dans le passé. Une étape de simulation pour calculer une valeur fixe de décalage virtuel pour chaque lot virtuel et une quantité de déplacement de position estimée d'un motif de lithographie, sur la base d'une valeur fixe de décalage réel et d'une quantité réelle de déplacement de position, en supposant que les valeurs fixes de décalage de procédé d'exposition pour chacun des lots sont déterminées en séquence par rétroaction de la valeur fixe de décalage de la position d'exposition dans les i lots précédents et d'une quantité de déplacement de position d'un motif de lithographie après un procédé de lithographie, et une étape de calcul d'écart de la quantité estimée de déplacement de position entre des lots virtuels respectifs, sont exécutées une pluralité de fois tout en faisant varier la valeur de i. Ainsi, le nombre i optimal de lots de rétroaction où l'écart devient minimal parmi une pluralité de i est obtenu.
(JA)   過去に実行したリソグラフィ処理の実績に基づいて、露光位置の調節について効果的なフィードバックを行う方法を決定することが可能な、リソグラフィ処理の露光位置アライメント方法を提供する。  各ロットにおける露光処理のオフセット設定値を、そのロットより前のiロットにおける露光位置のオフセット設定値およびリソグラフィ処理後のリソグラフィパターンの位置ずれ量をフィードバックして順次決定していったと仮定した場合の、各仮想的なロットにおける仮想オフセット設定値およびリソグラフィパターンの推定位置ずれ量を、実オフセット設定値および実位置ずれ量に基づいてシミュレーションして算出するシミュレーションステップと、各仮想的なロット間での推定位置ずれ量の偏差を算出する偏差算出ステップとを、前記iの値を変えて複数実行し、複数のiのうち、前記偏差が最小となるiである最適フィードバックロット数を求める。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)