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1. (WO2008117435) TÊTE MAGNÉTIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLE-CI, ET UNITÉ D'ACCÈS À DES INFORMATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117435    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/056390
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 27.03.2007
CIB :
G11B 5/39 (2006.01)
Déposants : FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 1-1, Kamikodanaka 4-chome Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2118588 (JP) (Tous Sauf US).
AKIE, Masanori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : AKIE, Masanori; (JP)
Mandataire : YAMADA, Masaki; Pelican Building 4th Floor 3-3, Nishi-shimbashi 3-chome Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) MAGNETIC HEAD, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND INFORMATION ACCESS UNIT
(FR) TÊTE MAGNÉTIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLE-CI, ET UNITÉ D'ACCÈS À DES INFORMATIONS
(JA) 磁気ヘッド、磁気ヘッド製造方法、および磁気記録再生装置
Abrégé : front page image
(EN)A magnetic head comprising a reluctance element exhibiting reluctance dependent on the magnetic field; two magnetic field application bodies sandwiching the reluctance element and applying a predetermined magnetic field to the reluctance element; two shield bodies for shielding the magnetic field while sandwiching the reluctance element and two magnetic field application bodies from the direction touching the reluctance element and connected electrically with the reluctance element; a first insulating film located between the reluctance element and the two magnetic field application bodies, respectively, in order to insulate the reluctance element and the magnetic field application body one from the other; and a second insulating film, which is thicker than the first insulating film, and is located between the reluctance element and one or both of the two magnetic field application bodies in order to insulate the shield body and the magnetic field application body one from the other.
(FR)L'invention concerne une tête magnétique comprenant un élément de reluctance présentant une reluctance qui est fonction du champ magnétique ; deux corps d'application de champ magnétique prenant en sandwich l'élément de reluctance et appliquant un champ magnétique prédéterminé à l'élément de reluctance ; deux corps de blindage pour blinder le champ magnétique tout en prenant en sandwich l'élément de reluctance et les deux corps d'application de champ magnétique à partir de la direction touchant l'élément de reluctance et connectés électriquement à l'élément de reluctance ; un premier film isolant situé entre l'élément de reluctance et les deux corps d'application de champ magnétique, respectivement, afin d'isoler l'élément de reluctance et le corps d'application de champ magnétique l'un de l'autre ; et un second film isolant, qui est plus épais que le premier film isolant, et est situé entre l'élément de reluctance et l'un ou les deux des corps d'application de champ magnétique afin d'isoler le corps de blindage et le corps d'application de champ magnétique l'un de l'autre.
(JA) 磁場に応じた抵抗を生じる磁気抵抗素子と、磁気抵抗素子を挟み、磁気抵抗素子に所定磁場を印加する2つの磁場印加体と、磁気抵抗素子および2つの磁場印加体を、磁気抵抗素子に接する方向から挟んだ、磁場をシールドし、磁気抵抗素子と電気的に接続される2つのシールド体と、磁気抵抗素子と2つの磁場印加体それぞれとの間の双方に位置し、磁気抵抗素子と磁場印加体とを絶縁する第1絶縁膜と、磁場印加体と2つのシールド体それぞれとの間の双方又は一方に位置し、シールド体と磁場印加体とを絶縁する、第1絶縁膜よりも膜厚が厚い第2絶縁膜とを有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)