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1. (WO2008117308) NOUVEAU DÉRIVÉ ESTER D'ACIDE DIAZONAPHTOQUINONESULFONIQUE ET DE BISPHÉNOL UTILE DANS LA FORMATION DE MOTIFS SUBMICRONIQUES PHOTOLITHOGRAPHIQUES ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117308    N° de la demande internationale :    PCT/IN2008/000169
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 20.03.2008
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.01.2009    
CIB :
C07C 309/77 (2006.01), C07C 303/28 (2006.01), G03F 7/016 (2006.01)
Déposants : COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH [IN/IN]; Anusandhan Bhawan, 2 Rafi Marg, New Delhi 110 001 (IN) (Tous Sauf US).
REDDY, Vummadi, Venkat [IN/IN]; (IN) (US Seulement).
RAO, Vaidya, Jayathirtha [IN/IN]; (IN) (US Seulement).
KANTAM, Mannepalli, Lakshmi [IN/IN]; (IN) (US Seulement).
MADHAVENDRA, Sunkara, Sakunthala [IN/IN]; (IN) (US Seulement).
DWIVEDI, Virendra, Kumar [IN/IN]; (IN) (US Seulement)
Inventeurs : REDDY, Vummadi, Venkat; (IN).
RAO, Vaidya, Jayathirtha; (IN).
KANTAM, Mannepalli, Lakshmi; (IN).
MADHAVENDRA, Sunkara, Sakunthala; (IN).
DWIVEDI, Virendra, Kumar; (IN)
Mandataire : SALHOTRA, Anuradha; Lall Lahiri & Salhotra, Plot N° B-28, Sector-32, Institutional Area, Gurgaon 122 001, Haryana (IN)
Données relatives à la priorité :
649/DEL/2007 23.03.2007 IN
Titre (EN) NOVEL DIAZONAPHTHOQUINONESULFONIC ACID BISPHENOL DERIVATIVE USEFUL IN PHOTO LITHOGRAPHIC SUB MICRON PATTERNING AND A PROCESS FOR PREPARATION THEREOF
(FR) NOUVEAU DÉRIVÉ ESTER D'ACIDE DIAZONAPHTOQUINONESULFONIQUE ET DE BISPHÉNOL UTILE DANS LA FORMATION DE MOTIFS SUBMICRONIQUES PHOTOLITHOGRAPHIQUES ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides novel diazonaphthoquinonesulfonic acid bisphenol derivatives. More particularly, the present invention relates to photo restive coating comprising alkali-soluble resin, a photoactive compound and a surfactant. The photoresist film prepared has less then one micron.The photoactive compound is soluble or swellable in aqueous alkaline solutions and is diazonaphthoquinonesulfonic bisphenol esters of the general formula (A), wherein DNQ represents a 2-Diazo-1-naphthoquinone-4-sulfonyl, 2-Diazo-1- naphthoquinone-5-sulfonyl, 1-Diazo-2-naphthoquinone-4-sulfonyl groups and R1 R1 represents an alkyl, aryl and substituted aryl groups. The invention also provides a process for coating and imaging the light-sensitive composition.
(FR)La présente invention porte sur de nouveaux dérivés esters d'acide diazonaphtoquinonesulfonique et de bisphénol. Plus particulièrement, la présente invention porte sur un revêtement de photorésist comprenant une résine soluble dans les alcalis, un composé photo-actif et un agent tensio-actif. Le film de photorésist préparé fait moins d'un micron. Le composé photo-actif est soluble ou gonflable dans les solutions alcalines aqueuses et est un ester d'acide diazonaphtoquinonesulfonique et de bisphénol, représenté par la formule générale (A) dans laquelle DNQ représente un groupe 2-diazo-1-naphtoquinone-4-sulfonyle, 2-diazo-1-naphtoquinone-5-sulfonyle, 1-diazo-2-naphtoquinone-4-sulfonyle et R1 représente un groupe alkyle, aryle ou aryle substitué. L'invention porte également sur un procédé pour le revêtement et l'imagerie de la composition sensible à la lumière.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)