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1. (WO2008117197) CONCEPTION D'ÉTAGES À AXES SÉPARÉS POUR DES APPLICATIONS SEMI-CONDUCTRICES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117197    N° de la demande internationale :    PCT/IB2008/051006
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 17.03.2008
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), B23Q 1/62 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS, N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
VERMEULEN, Johannes Petrus Martinus Bernardus [NL/US]; (US) (US Seulement).
PEIJNENBURG, Antonius T.A. [NL/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : VERMEULEN, Johannes Petrus Martinus Bernardus; (US).
PEIJNENBURG, Antonius T.A.; (US)
Mandataire : DAMEN, Daniel, M.; Philips Intellectual Property & Standards, High Tech Campus 44, P.O. Box 220, NL-5600 AE Eindhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
60/908,214 27.03.2007 US
Titre (EN) SPLIT AXES STAGE DESIGN FOR SEMICONDUCTOR APPLICATIONS
(FR) CONCEPTION D'ÉTAGES À AXES SÉPARÉS POUR DES APPLICATIONS SEMI-CONDUCTRICES
Abrégé : front page image
(EN)A stage assembly (8) includes a first stage (10) having at least one degree of freedom, i.e. at least one long stroke motion capability, and being movably mounted in a first stage base frame (12), the first stage base frame permitting motion in a first direction. A second stage (20) has at least one degree of freedom, i.e. at least one long stroke motion capability, and being movably mounted in a second stage base frame (22). The second stage base frame permitting motion in a second direction which is different from the first direction. The first stage and the second stage are located one over the other in a third direction which is orthogonal the first and second directions and a motion. An isolated reference metrology frame (18) is configured to provide a point of reference for the first and second stages in one or more degrees of freedom. Other degrees of freedom may be measured more directly from one stage relative to the other.
(FR)Un ensemble d'étages (8) comprend un premier étage (10) ayant au moins un degré de liberté, c'est-à-dire, au moins une capacité de mouvement à course longue, et étant monté de manière mobile dans un cadre (12) de base de premier étage, le cadre de base de premier étage autorisant un mouvement dans une première direction. Un second étage (20) a au moins un degré de liberté, c'est-à-dire au moins une capacité de mouvement à longue course, et est monté de manière mobile dans un cadre (22) de base de second étage. Le cadre de base de second étage autorise un mouvement dans une seconde direction qui est différente de la première direction. Le premier étage et le second étage sont situés l'un sur l'autre dans une troisième direction qui est orthogonale aux première et seconde directions et à un mouvement. Un cadre (18) de métrologie de référence isolé est configuré pour fournir un point de référence pour les premier et second étages dans un ou plusieurs degrés de liberté. D'autres degrés de liberté peuvent être mesurés plus directement à partir d'un étage par rapport à l'autre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)