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1. (WO2008116900) COMPOSITION DE POLYURÉTHANNE CYCLOALIPHATIQUE CONTENANT DES DIALDIMINES CYCLOALIPHATIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/116900    N° de la demande internationale :    PCT/EP2008/053631
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 27.03.2008
CIB :
C08G 18/12 (2006.01), C08G 18/20 (2006.01), C08G 18/48 (2006.01), C08G 18/75 (2006.01), C09D 175/08 (2006.01), C09J 175/08 (2006.01)
Déposants : SIKA TECHNOLOGY AG [CH/CH]; Zugerstrasse 50, CH-6340 Baar (CH) (Tous Sauf US).
BURCKHARDT, Urs [CH/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : BURCKHARDT, Urs; (CH)
Données relatives à la priorité :
07105002.5 27.03.2007 EP
Titre (DE) CYCLOALIPHATISCHE POLYURETHANZUSAMMENSETZUNG ENTHALTEND CYCLOALIPHATISCHE DIALDIMINE
(EN) CYCLOALIPHATIC POLYURETHANE COMPOSITION CONTAINING CYCLOALIPHATIC DIALDIMINES
(FR) COMPOSITION DE POLYURÉTHANNE CYCLOALIPHATIQUE CONTENANT DES DIALDIMINES CYCLOALIPHATIQUES
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft Polyurethanzusammensetzungen, welche mindestens ein cycloaliphatische Isocyanatgruppen aufweisendes Polyurethanpolymer P und mindestens ein cycloaliphatisches Dialdimin aufweisen. Derartige Zusammensetzungen eignen sich insbesondere als elastische Kleb- und Dichtstoffe sowie als Beschichtungen und zeichnen sich dadurch aus, dass sie bei guten Verarbeitungseigenschaften lichtbeständig sind und eine gute Lagerstabilität aufweisen. Weiterhin härten die erfindungsgemässen Zusammensetzungen rasch, blasenfrei und geruchlos aus. Sie verfügen im ausgehärteten Zustand über eine hohe Festigkeit und zeigen eine geringe Oberflächenklebrigkeit sowie eine geringe Tendenz zum Ausschwitzen migrationsfähiger Bestandteile.
(EN)The invention relates to polyurethane compositions which comprise at least one cycloaliphatic isocyanate group-bearing polyurethane polymer P and at least one cycloaliphatic dialdimine. Compositions of this type are especially suitable as elastic adhesives and sealing agents and as coating materials and are characterized by their photostability and good storage stability while having good processing properties. The compositions according to the invention cure quickly, without forming bubbles and giving off odors. When cured, they are highly stable and have little surface tack and little tendency to exudate components that are capable of migration.
(FR)La présente invention concerne des compositions de polyuréthanne comprenant au moins un groupe polymère polyuréthanne P présentant des groupes d'isocyanate cycloaliphatiques et au moins une dialdimine cycloaliphatique. De telles compositions conviennent notamment comme colle et produit d'étanchéité élastiques et comme revêtements. Lesdites compositions sont caractérisées en ce que, pour de bonnes propriétés de traitement, elles sont photostables et affichent une bonne stabilité au stockage. En outre, les compositions selon l'invention durcissent rapidement, sans bulle et sans odeur. Elles affichent, à l'état durci, une grande solidité et une faible adhésivité superficielle ainsi qu'une faible tendance au suintement de constituants aptes à la migration.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)