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1. (WO2008116617) DISPOSITIF POUR DÉPÔT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE D'UN REVÊTEMENT SUR UN MATÉRIAU CONTINU, AVEC APPLICATEUR DE LIQUIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/116617    N° de la demande internationale :    PCT/EP2008/002310
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 22.03.2008
CIB :
C23C 14/04 (2006.01)
Déposants : GALILEO VACUUM SYSTEMS S.p.A. [IT/IT]; Via delle Fonti, 432, I-59100 Prato (IT) (Tous Sauf US).
PAGANI, Angelo [IT/IT]; (IT) (US Seulement)
Inventeurs : PAGANI, Angelo; (IT)
Mandataire : MANNUCCI, Michele; UFF. Tecn. Ing. A. Mannucci S.r.l., Via della Scala, 4, I-50123 Firenze (IT)
Données relatives à la priorité :
07425180.2 27.03.2007 EP
Titre (EN) DEVICE FOR VACUUM DEPOSITION OF A COATING ON A CONTINUOUS MATERIAL, WITH LIQUID APPLICATOR
(FR) DISPOSITIF POUR DÉPÔT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE D'UN REVÊTEMENT SUR UN MATÉRIAU CONTINU, AVEC APPLICATEUR DE LIQUIDE
Abrégé : front page image
(EN)The system for vacuum deposition comprises: an evacuable chamber; in said chamber, a feed path of the web material in a vacuum environment; along the feed path, a process roller (19) around which said web material is guided; associated with the process roller, at least one vaporization source (13) of at least one material to form said coating. Upstream of the source there is disposed an applicator unit (51) for applying a liquid product to the web material according to a pre-established pattern. The applicator unit comprises a printing cylinder (53), cooperating with a distributor cylinder (55), and a source (57) of said liquid product. The printing cylinder (53) comprises at least one substantially continuous circumferential projection, which generates a continuous contact with the web material fed around the process roller (19) or with said process roller during treatment of the web material.
(FR)L'invention concerne un système pour dépôt par évaporation sous vide qui comprend : une chambre susceptible d'être mise sous vide ; dans ladite chambre, un chemin d'alimentation de matériau en bande dans un environnement sous vide ; le long du chemin d'alimentation, un cylindre de traitement (19) le long duquel ledit matériau en bande est guidé ; associée avec le cylindre de traitement, au moins une source de vaporisation (13) d'au moins un matériau destiné à former ledit revêtement. En amont de la source est disposée une unité d'application (51) destinée à appliquer un produit liquide sur le matériau en bande selon un motif pré-établi. L'unité d'application comprend un cylindre d'application (53) coopérant avec un cylindre de distribution (55) et une source (57) dudit produit liquide. Le cylindre d'application (53) comprend au moins une saillie circonférentielle essentiellement continue, qui génère un contact continu avec le matériau en bande fourni autour du cylindre de traitement (19) ou avec ledit cylindre de traitement, pendant le traitement du matériau en bande.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)