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1. (WO2008092060) SYSTÈME DE MIROIR MEMS POUR DES APPLICATIONS D'IMPRESSION LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/092060    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/052008
Date de publication : 31.07.2008 Date de dépôt international : 25.01.2008
CIB :
G02B 26/08 (2006.01)
Déposants : MIRADIA INC. [US/US]; 281 East Java Drive, Sunnyvale, California 94089 (US) (Tous Sauf US).
YANG, Xiao [CN/US]; (US) (US Seulement).
WORLEY III, William Spencer [US/US]; (US) (US Seulement).
CHEN, Dongmin [US/US]; (US) (US Seulement).
WANG, Ye [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : YANG, Xiao; (US).
WORLEY III, William Spencer; (US).
CHEN, Dongmin; (US).
WANG, Ye; (US)
Mandataire : LARGENT, Craig C.; Townsend And Townsend And Crew Llp, Two Embarcadero Center, Eighth Floor, San Francisco, California 94111-3834 (US)
Données relatives à la priorité :
60/886,740 26.01.2007 US
Titre (EN) A MEMS MIRROR SYSTEM FOR LASER PRINTING APPLICATIONS
(FR) SYSTÈME DE MIROIR MEMS POUR DES APPLICATIONS D'IMPRESSION LASER
Abrégé : front page image
(EN)A MEMS mirror for a laser printing application includes providing a CMOS substrate including a pair of electrodes, and providing a reflecting mirror moveable over the substrate and the electrodes. Voltages applied to the electrodes create an electrostatic force causing an end of the mirror to be attracted to the substrate. A precise position of the mirror can be detected and controlled by sensing a change in capacitance between the mirror ends and the underlying electrodes.
(FR)L'invention concerne un miroir MEMS pour une application d'impression laser qui comprend le fait de fournir un substrat CMOS comprenant une paire d'électrodes, et de fournir un miroir réfléchissant mobile sur le substrat et les électrodes. Des tensions appliquées aux électrodes créent une force électrostatique amenant une extrémité du miroir à être attirée vers le substrat. Une position précise du miroir peut être détectée et contrôlée par la détection d'un changement de capacité entre les extrémités de miroir et les électrodes sous-jacentes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)