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1. (WO2008091731) CONCEPTIONS DE CIBLES ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS PERMETTANT D'OBTENIR DES COURANTS DE FOUCAULT RÉDUITS, UNE RÉSISTANCE ET UNE RÉSISTIVITÉ SUPÉRIEURES ET UN REFROIDISSEMENT AMÉLIORÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/091731    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/050482
Date de publication : 31.07.2008 Date de dépôt international : 08.01.2008
CIB :
C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : HONEYWELL INTERNATIONAL INC. [US/US]; 101 Columbia Road, Morristown, New Jersey 07962 (US) (Tous Sauf US).
LEE, Eal, H. [US/US]; (US) (US Seulement).
HORT, Werner [DE/US]; (US) (US Seulement).
KARDOKUS, Janine, k. [US/US]; (US) (US Seulement).
STROTHERS, Susan, D. [US/US]; (US) (US Seulement).
KIM, Jaeyeon [KR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Eal, H.; (US).
HORT, Werner; (US).
KARDOKUS, Janine, k.; (US).
STROTHERS, Susan, D.; (US).
KIM, Jaeyeon; (US)
Mandataire : THOMPSON, Sandra, P.; Buchalter Nemer, 18400 Von Karman Ave., Suite 800, Irvine, CA 92612-0514 (US)
Données relatives à la priorité :
11/656,705 22.01.2007 US
Titre (EN) TARGET DESIGNS AND RELATED METHODS FOR REDUCED EDDY CURRENTS, INCREASED RESISTANCE AND RESISTIVITY, AND ENHANCED COOLING
(FR) CONCEPTIONS DE CIBLES ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS PERMETTANT D'OBTENIR DES COURANTS DE FOUCAULT RÉDUITS, UNE RÉSISTANCE ET UNE RÉSISTIVITÉ SUPÉRIEURES ET UN REFROIDISSEMENT AMÉLIORÉ
Abrégé : front page image
(EN)A sputtering target is described herein that comprises: a) a target surface component comprising a target material; b) a core backing component having a coupling surface and a back surface, wherein the coupling surface is coupled to the target surface component; and c) at least one surface area feature coupled to or located in the back surface of the core backing component, wherein the surface area feature increases the resistance, resistivity or a combination thereof of the core backing component. Methods of forming a sputtering target are also described that comprises: a) providing a target surface component comprising a surface material; b) providing a core backing component comprising a backing material and having a coupling surface and a back surface; c) providing at least one surface area feature coupled to or located in the back surface of the core backing component, wherein the surface area feature increases the resistance, resistivity or a combination thereof of the core backing component; and d) coupling the surface target material to the coupling surface of the core backing material.
(FR)La présente invention concerne une cible de pulvérisation qui comprend : a) un élément de surface de cible comprenant une matière cible; b) un élément de revêtement de noyau présentant une surface de couplage et une surface arrière, la surface de couplage étant couplée à l'élément de surface cible; et c) au moins un élément de zone de surface couplé à ou disposé dans la surface arrière de l'élément de revêtement de noyau, l'élément de zone de surface augmentant la résistance, la résistivité ou une combinaison des deux, de l'élément de revêtement de noyau. L'invention a également pour objet des procédés de formation d'une cible de pulvérisation qui consistent à : a) fournir un élément de surface de cible comprenant une matière de surface; b) fournir un élément de revêtement de noyau comprenant une matière de revêtement et présentant une surface de couplage et une surface arrière; c) fournir au moins un élément de zone de surface couplé à ou disposé sur l'élément de revêtement de noyau, l'élément de zone de surface augmentant la résistance, la résistivité ou une combinaison des deux de l'élément de revêtement de noyau; et d) couplage de la matière de cible de surface à la surface de couplage de la matière de revêtement de noyau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)