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1. (WO2008091139) SYSTÈME DE MICROSCOPE À RAYON X À BALAYAGE DE SOURCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/091139    N° de la demande internationale :    PCT/KR2008/000487
Date de publication : 31.07.2008 Date de dépôt international : 25.01.2008
CIB :
G21K 7/00 (2006.01)
Déposants : KOREA ELECTRO-OPTICS CO., LTD. [KR/KR]; 226 Samjeong-dong, Ojeong-gu, Bucheon-city, Gyeonggi-do 421-809 (KR) (Tous Sauf US).
KIM, Ki-Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KIM, Ki-Ho; (KR)
Mandataire : Y.P. LEE, MOCK & PARTNERS; 1575-1 Seocho-dong, Seocho-gu, Seoul 137-875 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2007-0008316 26.01.2007 KR
Titre (EN) SOURCE SCANNING X-RAY MICROSCOPE SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE MICROSCOPE À RAYON X À BALAYAGE DE SOURCE
Abrégé : front page image
(EN)Provided is an x-ray microscope system which does not use an expensive charge coupled device (CCD), and can be used to observe a sample by using an x-ray without ultra precisely moving the sample. The x-ray microscope system includes: a laser generator, which generates a laser beam; a scanner, which outputs the laser beam by changing an output angle of the laser beam incident from the laser generator in a predetermined angle according to time; a laser condenser, which condenses the laser beam outputted from the scanner on a point on a focus surface determined according to an incident angle of the laser beam; an x-ray generator, which includes a predetermined x-ray generating target for generating an x-ray on the focus surface so as to generate an x-ray when the laser beam outputted from the laser condenser is irradiated; an x-ray condenser, which condenses the x-ray generated by the x-ray generator on different locations of the focus surface according to locations of the generated x-ray; a sample installer, which is disposed on the focus surface of the x-ray condenser and on which a sample to be observed is placed; an x-ray measurer, which is installed at a backend of the sample installer and converts the quantity of the x-ray that is condensed and penetrates the sample on the sample installer, into an electric signal; and an x-ray image former, which converts the electric signal.
(FR)L'invention concerne un système de microscope à rayon X qui n'utilise pas un dispositif à transfert de charge onéreux (CCD) et qui peut être utilisé pour observer un échantillon au moyen d'un rayon X sans déplacer de manière ultra précise cet échantillon. Ce système de microscope à rayon X comprend : un générateur laser, qui génère un faisceau laser, un scanner qui produit en sortie ce faisceau laser en modifiant un angle de sortie de ce rayon laser incident du générateur laser selon un angle prédéterminé en fonction du temps, un condenseur laser qui condense le faisceau laser produit en sortie du scanner sur un point d'une surface de focalisation déterminé selon un angle incident du faisceau laser, un générateur de rayon X qui comprend une cible génératrice de rayon X prédéterminée destinée à générer un rayon X sur la surface de focalisation afin de générer un rayons X lorsque le faisceau laser produit en sortie du condenseur laser est irradié, un condenseur de rayons X qui condense le rayons X généré par le générateur de rayon X sur différents emplacements de la surface de focalisation en fonction des emplacements du rayon X à générer, un dispositif d'installation d'échantillon qui est placé sur la surface de focalisation du condenseur de rayons X et sur lequel un échantillon à observer est placé, un dispositif de mesure de rayon X qui est installé au niveau d'un système principal du dispositif d'installation d'échantillon et qui transforme la quantité de rayon X qui est condensé et qui pénètre l'échantillon sur le dispositif d'installation d'échantillon, en un signal électrique et, un dispositif de formation d'image de rayon X qui transforme le signal électrique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)