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1. (WO2008090975) STRUCTURE DE SUPPORT ET APPAREIL D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/090975    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/051070
Date de publication : 31.07.2008 Date de dépôt international : 25.01.2008
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G10K 11/16 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
FUJIMAKI, Norihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAMIYAMA, Takahide [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAMOTO, Hideaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJIMAKI, Norihiko; (JP).
KAMIYAMA, Takahide; (JP).
SAKAMOTO, Hideaki; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-016194 26.01.2007 JP
Titre (EN) SUPPORT STRUCTURE AND EXPOSURE APPARATUS
(FR) STRUCTURE DE SUPPORT ET APPAREIL D'EXPOSITION
(JA) 支持構造体及び露光装置
Abrégé : front page image
(EN)A support structure (30) supports objects (12, 14, 16, 20) and has a resonation device (1). When vibration is transmitted to the resonation device (1) from the outside, the device resonates with the air vibration to damp it.
(FR)Une structure de support (30) supporte des objets (12, 14, 16, 20) et est muni d'un dispositif de résonance (1). Lorsqu'une vibration extérieure est transmise au dispositif de résonance (1), le dispositif résonne avec la vibration de l'air pour l'amortir.
(JA) 支持構造体(30)は、支持対象物(12,14,16,20)を支持する。支持構造体(30)は、外部から伝達される空気振動と共振して、上記空気振動を減衰させる共振装置(1)を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)