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1. (WO2008090942) PROCÉDÉ D'EXPOSITION, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MICRODISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/090942    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/050943
Date de publication : 31.07.2008 Date de dépôt international : 24.01.2008
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
NARA, Kei [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NARA, Kei; (JP)
Mandataire : FUJIMOTO, Yoshihiro; VerdyNOGIZAKA 2F 14-7, Minamiaoyama 1-chome Minato-ku, Tokyo 1070062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-015391 25.01.2007 JP
Titre (EN) EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND MICRO DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MICRODISPOSITIF
(JA) 露光方法、露光装置、及びマイクロデバイスの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure device includes: a light source (LS) which emits a pulse light; and a variable molded mask (8) which has a plurality of aligned micro movable mirrors and forms an arbitrary pattern by selectively changing the operation state of the movable mirrors. A substrate (P) is exposed to the light emitted from the light source and passes through the variable molded mask. The exposure device further includes a control device (100) which controls the operation timing to change the operation state of the movable mirrors and the pulse application timing of the pulse light emitted from the light source so that they are synchronized.
(FR)Un dispositif d'exposition comprend une source de lumière (LS) qui émet une lumière d'impulsion ; et un masque moulé variable (8) qui a une pluralité de micromiroirs mobiles alignés, et forme un motif arbitraire par changement sélectif de l'état d'opération des miroirs mobiles. Un substrat (P) est exposé à la lumière émise à partir de la source de lumière et passe à travers le masque moulé variable. Le dispositif d'exposition comprend en outre un dispositif de commande (100) qui commande la temporisation d'opération pour changer l'état d'opération des miroirs mobiles et la temporisation d'application d'impulsion à la lumière d'impulsion émise à partir de la source de lumière, de telle sorte qu'elles soient synchronisées.
(JA) パルス光を射出する光源(LS)と、配列的に配置された複数の微少な可動ミラーを有し、該可動ミラーの動作状態を選択的に変化させることにより、任意のパターンを形成する可変成形マスク(8)とを備え、前記光源から射出され、前記可変成形マスクを介した光で基板(P)を露光する露光装置であって、前記可動ミラーの動作状態を変化させる動作タイミングと前記光源から射出されるパルス光のパルスの照射タイミングとが同期するように制御する制御装置(100)を備えて構成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)