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1. (WO2008089347) TAMPON À LIMITES DESTINÉ AUX IMPLANTS DENTAIRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/089347    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/051340
Date de publication : 24.07.2008 Date de dépôt international : 17.01.2008
CIB :
A61C 1/08 (2006.01)
Déposants : VERBAN, Emil, M., Jr. [US/US]; (US)
Inventeurs : VERBAN, Emil, M., Jr.; (US)
Mandataire : BANIAK, Michael, H.; MCDONNELL BOEHNEN HULBERT & BERGHOFF LLP, 300 South Wacker Drive, Suite 3100, Chicago, IL 60606 (US)
Données relatives à la priorité :
60/880,982 17.01.2007 US
Titre (EN) DEPTH GAUGE FOR USE IN DENTAL IMPLANTS
(FR) TAMPON À LIMITES DESTINÉ AUX IMPLANTS DENTAIRES
Abrégé : front page image
(EN)A dental drill system and method for drilling a socket to a predetermined depth and diameter which is sized to receive an implant includes a probe portion and a collar threadably disposed on the probe. The probe includes a number of spaced thread sections, wherein each thread section has a margin. Aligning the collar with any one of the thread section margins positions the collar at a desired position. The resulting distance between a tip of the probe and the collar corresponds to a specified depth for a standard implant. The collar is sized and shaped to accurately mimic an implant platform and is used to confirm proper formation of the socket and the resulting orientation of the implant platform before the implant is inserted into the site.
(FR)L'invention concerne un système de perforation dentaire et un procédé destiné à former, par perforation, un trou qui présente une profondeur et un diamètre prédéterminés, et dont la taille permet de recevoir un implant, ledit système comprenant une partie sonde et un collier monté par filetage sur la sonde. Cette sonde comprend une pluralité de sections filetées espacées, chaque section filetée possédant une marge. L'alignement du collier avec l'une quelconque des marges des sections filetées permet la mise en place du collier au niveau d'une position souhaitée. La distance résultante entre une pointe de la sonde et le collier correspond à une profondeur spécifiée pour un implant standard. Ledit collier présente une taille et une forme imitant avec précision une plate-forme d'implant, et permet d'assurer une formation appropriée du trou et une bonne orientation résultante de la plate-forme d'implant avant l'insertion de l'implant dans le site.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)