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1. (WO2008089222) SYSTÈME DE CORRECTION DE PROXIMITÉ OPTIQUE À BASE DE SCANNER ET PROCÉDÉ D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/089222    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/051146
Date de publication : 24.07.2008 Date de dépôt international : 16.01.2008
CIB :
G06F 9/455 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3 Marunouchi, 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
NIKON PRECISION INC. [US/US]; 399 Shoreway Road, Belmont, CA 94002-4107 (US) (Tous Sauf US).
TYMINSKI, Jacek [US/US]; (US) (US Seulement).
POPESCU, Raluca [US/US]; (US) (US Seulement).
MATSUYAMA, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TYMINSKI, Jacek; (US).
POPESCU, Raluca; (US).
MATSUYAMA, Tomoyuki; (JP)
Mandataire : CALDERON, Andrew; 1950 Roland Clarke Place, Reston, Virginia 20191 (US)
Données relatives à la priorité :
60/885,547 18.01.2007 US
Titre (EN) SCANNER BASED OPTICAL PROXIMITY CORRECTION SYSTEM AND METHOD OF USE
(FR) SYSTÈME DE CORRECTION DE PROXIMITÉ OPTIQUE À BASE DE SCANNER ET PROCÉDÉ D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)A modeling technique is provided. The modeling technique includes inputting tool parameters into a model and inputting basic model parameters into the model. The technique further includes generating a simulated, corrected reticle design using the tool parameters and the basic model parameters. An image of test patterns is compared against the simulated, corrected reticle design. A determination is made as to whether δ1 < &egr;-1, wherein δ1 represents model vs. exposure difference and &egr;-1 represents predetermined criteria. The technique further includes completing the model when δ1 < &egr;-1.
(FR)L'invention concerne des techniques de modélisation. Ces techniques de modélisation consistent à entrer des paramètres de modèle de base dans le modèle. La technique consiste aussi à générer un dessin de réticule corrigé et simulé au moyen des paramètres d'outil et des paramètres de modèle de base. Une image de motifs de test est comparée avec le dessin simulé et corrigé. On détermine si δ1 < &egr;-1, avec δ1 représentant le modèle par rapport à la différence d'exposition et &egr;-1représentant un critère prédéterminé. La technique consiste aussi à terminer ce modèle lorsque δ1 < &egr;-1.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)