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1. (WO2008088021) ÉLÉMENT DE CAPTEUR MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/088021    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/050537
Date de publication : 24.07.2008 Date de dépôt international : 17.01.2008
CIB :
H01L 43/00 (2006.01), G01R 33/06 (2006.01), G01R 33/09 (2006.01), H01L 43/08 (2006.01)
Déposants : Fujikura Ltd. [JP/JP]; 5-1, Kiba 1-chome, Kohtoh-ku, Tokyo 1358512 (JP) (Tous Sauf US).
Akita Prefecture [JP/JP]; 1-1, Sanno 4-chome, Akita-shi, Akita 0108570 (JP) (Tous Sauf US).
OHMORI, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AIZAWA, Takuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAO, Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAN, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OHMORI, Kenichi; (JP).
AIZAWA, Takuya; (JP).
NAKAO, Osamu; (JP).
TAN, Kenji; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-007979 17.01.2007 JP
2008-004880 11.01.2008 JP
Titre (EN) MAGNETIC SENSOR ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
(FR) ÉLÉMENT DE CAPTEUR MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 磁気センサ素子及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A magnetic sensor element is provided with a hard magnetic material film (2) formed on a nonmagnetic substrate (1); an insulating layer (3) covering the hard magnetic material film (2); and a soft magnetic material film (4) formed on the insulating layer (3), and the magnetizing direction of the hard magnetic material film (2) is at an angle (ϑ) to the longitudinal direction of the soft magnetic material film (4). In a planar view of the nonmagnetic substrate (1), a region whereupon the soft magnetic material film (2) is formed is preferably within a region larger than that where the soft magnetic material film (4) is formed, and that all the regions whereupon the soft magnetic material film (4) is formed overlap the region whereupon the hard magnetic material film (2) is formed. Uniform bias magnetic field can be obtained from the magnetic sensor element.
(FR)L'invention concerne un élément de capteur magnétique qui est doté d'un film (2) de matériau magnétique dur formé sur un substrat amagnétique (1), d'une couche isolante (3) recouvrant le film (2) de matériau magnétique dur et d'un film (4) de matériau magnétique tendre formé sur la couche isolante (3), et le sens de magnétisation du film (2) de matériau magnétique dur se trouve à un angle (ϑ) par rapport à la direction longitudinale du film (4) de matériau magnétique tendre. Selon une vue en plan du substrat amagnétique (1), une zone, sur laquelle est formé le film (2) de matériau magnétique dur, se trouve de préférence à l'intérieur d'une zone plus grande que celle où est formé le film (4) de matériau magnétique tendre, et elle est telle que toutes les régions sur lesquelles est formé le film (4) de matériau magnétique tendre chevauchent la zone sur laquelle est formé le film (2) de matériau magnétique dur. On peut obtenir un champ magnétique de polarisation uniforme à partir de l'élément de capteur magnétique.
(JA) この磁気センサ素子は、非磁性基板1上に形成された硬磁性体膜2と、硬磁性体膜2の上を覆う絶縁層3と、絶縁層3上に形成された軟磁性体膜4とを有し、硬磁性体膜2の着磁方向は、軟磁性体膜4の長手方向に対し角度θを有している。非磁性基板1を上から見た平面視において、前記硬磁性体膜2が形成された領域は、前記軟磁性体膜4が形成された領域よりも広い範囲にあり、かつ前記軟磁性体膜4が形成された領域はすべて前記硬磁性体膜2が形成された領域に重なっていることが好ましい。本発明によれば、均一なバイアス磁界が得られる磁気センサ素子を提供することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)