WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2008087799) MICROPUCE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/087799    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/072926
Date de publication : 24.07.2008 Date de dépôt international : 28.11.2007
CIB :
G01N 35/08 (2006.01), G01N 27/447 (2006.01), G01N 37/00 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (Tous Sauf US).
HIRAYAMA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIRAYAMA, Hiroshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-008751 18.01.2007 JP
Titre (EN) MICROCHIP AND METHOD FOR MANUFACTURING THE MICROCHIP
(FR) MICROPUCE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) マイクロチップ、及びマイクロチップの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a microchip, which has no significant flow rate difference for a liquid sample within a microflow passage and can be manufactured at low cost, and a method for manufacturing the microchip. A groove-shaped microflow passage (11) is provided in a resinous microchip substrate (10). An SiO2 film (12) is provided on the inner surface of the microflow passage (11). A resinous microchip substrate (13) is a flat substrate, and the surface of the flat substrate has been activated. The microchip substrate (10) is joined to the microchip substrate (13) so that the microchip substrate (10) in its microflow passage (11) formed side faces the microchip substrate (13) in its activated surface. By virtue of the activation of the resin surface, good joining can be realized between the substrates, and the difference in zeta potential between the substrate and the SiO2 film is reduced, whereby the flow rate difference for a liquid sample within the flow passage can be reduced.
(FR)L'invention concerne une micropuce ne présentant pas de différence significative de débit par rapport à un échantillon de liquide traversant un passage microfluidique. Cette micropuce peut être fabriquée à faible coût. L'invention concerne également un procédé de fabrication de cette micropuce. Un passage microfluidique en forme de rainure (11) est formé dans un substrat de micropuce en résine (10). Un film SiO2 (12) est situé sur la surface intérieure du passage microfluidique (11). Un substrat de micropuce en résine (13) est un substrat plat dont la surface est activée. Le substrat de micropuce (10) est assemblé avec le substrat de micropuce (13) de sorte que le substrat de micropuce (10) forme, au niveau de son passage microfluidique (11), des faces latérales sur la sa surface activée du substrat de micropuce (13). L'activation de la surface de résine permet d'obtenir un bon assemblage entre les substrats, et la différence de potentiel zêta entre le substrat et le film SiO2 est réduite, ce qui permet de réduire la différence de débit pour un échantillon de liquide traversant le passage microfluidique.
(JA) 微細流路内における液体試料の流速差が小さく、低コストで製造可能なマイクロチップ、及びそのマイクロチップの製造方法を提供する。樹脂製のマイクロチップ基板10には溝状の微細流路11が形成されている。その微細流路11の内面にはSiO膜12が形成されている。樹脂製のマイクロチップ基板13は平板状の基板であり、その表面は活性化処理が施されている。マイクロチップ基板10は微細流路11が形成されている面を内側にし、マイクロチップ基板13は活性化処理が施されている面を内側にして、マイクロチップ基板10とマイクロチップ基板13を接合する。樹脂表面を活性化することで基板同士を良好に接合することができ、SiO膜とのゼータ電位の差が小さくなるため、流路内における液体試料の流速差を小さくすることができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)