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1. (WO2008087797) TAMPON À POLIR ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/087797    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/072852
Date de publication : 24.07.2008 Date de dépôt international : 27.11.2007
CIB :
B24B 37/20 (2012.01), B24B 37/24 (2012.01), B29C 39/10 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01), B29K 105/04 (2006.01), B29K 75/00 (2006.01), B29L 31/00 (2006.01), B29L 31/58 (2006.01)
Déposants : TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD. [JP/JP]; 17-18, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508661 (JP) (Tous Sauf US).
FUKUDA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIROSE, Junji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAMURA, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
DOURA, Masato [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SATO, Akinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUKUDA, Takeshi; (JP).
HIROSE, Junji; (JP).
NAKAMURA, Kenji; (JP).
DOURA, Masato; (JP).
SATO, Akinori; (JP)
Mandataire : OZAKI, Yuzo; SHIN-OSAKA MT Bldg. 1, 13-9, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-006218 15.01.2007 JP
2007-006224 15.01.2007 JP
2007-006229 15.01.2007 JP
2007-006232 15.01.2007 JP
Titre (EN) POLISHING PAD AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) TAMPON À POLIR ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 研磨パッド及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a polishing pad having excellent durability and good adhesion between a polishing layer and a base layer. Specifically disclosed as a first embodiment of the invention is a polishing pad having a polishing layer formed on a base layer, which is characterized in that the polishing layer is composed of a thermosetting polyurethane foam having generally spherical open cells having an average cell diameter of 20-300 &mgr;m, that the polyurethane foam contains an isocyanate component and an active hydrogen-containing compound as raw materials, and that the active hydrogen-containing compound contains 30-85% by weight of a high-molecular-weight polyol having 2-4 functional groups and a hydroxyl number of 20-100 mgKOH/g.
(FR)L'invention concerne un tampon à polir ayant une excellente durabilité et une bonne adhésion entre une couche de polissage et une couche de base. L'invention concerne de façon spécifique, comme premier mode de réalisation de l'invention, un tampon à polir ayant une couche de polissage formée sur une couche de base, le tampon étant caractérisé par le fait que la couche de polissage est composée d'une mousse de polyuréthane thermodurcissable ayant des cellules ouvertes généralement sphérique ayant un diamètre de cellule moyen de 20-300 µm, par le fait que la mousse de polyuréthane contient, sous forme de matières brutes, un composant d'isocyanate et un composé contenant de l'hydrogène actif, et par le fait que le composé contenant de l'hydrogène actif contient 30-85 % en poids d'un polyol à poids moléculaire élevé ayant 2-4 groupes fonctionnels et un nombre d'hydroxyle de 20-100 mgKOH/g.
(JA) 耐久性に優れ、かつ研磨層と基材層との接着性が良好な研磨パッドを提供することを目的とする。第1の本発明は、基材層上に研磨層が設けられている研磨パッドにおいて、前記研磨層は、平均気泡径20~300μmの略球状の連続気泡を有する熱硬化性ポリウレタン発泡体からなり、前記ポリウレタン発泡体は、イソシアネート成分と活性水素含有化合物とを原料成分として含有し、前記活性水素含有化合物は、官能基数が2~4、水酸基価が20~100mgKOH/gの高分子量ポリオールを30~85重量%含有することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)