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1. (WO2008087546) COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT ANTIREFLET CONTENANT DES MÉLANGES DE SOLVANTS POUR PHOTORÉSINES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/087546    N° de la demande internationale :    PCT/IB2008/000118
Date de publication : 24.07.2008 Date de dépôt international : 16.01.2008
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/09 (2006.01), C09D 7/00 (2006.01)
Déposants : AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. [US/US]; 70 Meister Avenue, Somerville, NJ 08876 (US)
Inventeurs : XIANG, Zhong; (US).
WU, Hengpeng; (US).
ZHUANG, Hong; (US).
GONZALEZ, Eleazar; (US).
NEISSER, Mark O.; (US)
Données relatives à la priorité :
11/624,744 19.01.2007 US
Titre (EN) ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITIONS COMPRISING SOLVENT MIXTURES FOR PHOTORESISTS
(FR) COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT ANTIREFLET CONTENANT DES MÉLANGES DE SOLVANTS POUR PHOTORÉSINES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an antireflective coating composition capable of being coated beneath a photoresist layer, where the antireflective coating composition comprises a polymeric crosslinker and a solvent mixture, where the solvent mixture comprises at least one primary organic solvent and at least one secondary organic solvent selected from any of structures 1, 2 and 3, Formula (I) (II) (III) where, R1, R3, and R4, are selected from H and C1-C6alkyl, and R2, R5, R6, R7, R8, and R9 are selected from C1-C6alkyl, and n=1 -5. The invention also relates to an antireflective coating composition capable of being coated beneath a photoresist layer, where the antireflective coating composition comprises a polymeric crosslinker and a solvent mixture, where the solvent mixture comprises at least 2 organic solvents, and where the antireflective coating composition has a liquid particle count at 0.2 micron of less than 100/ml after accelerated aging.
(FR)La présente invention concerne une composition de revêtement antireflet pouvant être appliquée sous une couche de photorésine, la composition de revêtement antireflet comprenant un agent de réticulation polymère et un mélange de solvants, le mélange de solvants comprenant au moins un solvant organique primaire et au moins un solvant organique secondaire choisis entre l'une quelconque des structures 1, 2 et 3, Formules (I) (II) (III) où, R1, R3, et R4, sont choisis entre H et un alkyle en C1 à C6, et R2, R5, R6, R7, R8, et R9 sont choisis entre un alkyle en C1 à C6, et n = 1 à 5. La présente invention concerne également une composition de revêtement antireflet pouvanr être appliquée sous une couche de photorésine, la composition de revêtement antireflet comprenant un agent de réticulation polymère et un mélange de solvants, le mélange de solvants comprenant au moins 2 solvants organiques, et la composition de revêtement antireflet ayant un comptage de particules liquides à 0,2 microns de moins de 100/ml après vieillissement accéléré.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)