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1. (WO2008086527) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS UTILISANT UNE PHOTOCATHODE À COMMANDE DYNAMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/086527    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/050913
Date de publication : 17.07.2008 Date de dépôt international : 11.01.2008
CIB :
H01J 37/317 (2006.01), H01J 37/073 (2006.01), H01J 1/34 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION [US/US]; One Technology Drive, Milpitas, California 95035 (US) (Tous Sauf US).
CARROLL, Allen M. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CARROLL, Allen M.; (US)
Mandataire : KALINSKI, Francis T.; Beyer Law Group LLP, P.O. Box 1687, Cupertino, California 95015-1687 (US)
Données relatives à la priorité :
60/884,595 11.01.2007 US
11/686,905 15.03.2007 US
Titre (EN) ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD AND APPARATUS USING A DYNAMICALLY CONTROLLED PHOTOCATHODE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS UTILISANT UNE PHOTOCATHODE À COMMANDE DYNAMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the invention include an electron beam lithography device (200) using a dynamically controllable photocathode capable of producing a patterned electron beam (208). One such implementation includes a dynamic pattern generator ( 202) configurable to produce an electron beam (208) having a desired image pattern impressed thereon. Such an electron beam pattern being enabled by selectively activating programmable photoemissive elements of the pattern generator. The apparatus further including an illumination source. (201) arranged to direct a light beam onto the dynamic pattern generator (202) to produce the electron beam having the desired pattern. The electron beam being directed through associated electron optics (215) configured to receive the electron beam from the dynamic pattern generator and direct the electron beam onto a target substrate (205) mounted on a stage (206).
(FR)Des modes de réalisation de l'invention concernent un dispositif de lithographie par faisceau d'électrons utilisant une photocathode à commande dynamique pouvant produire un faisceau d'électrons à motif. Un de ces modes de réalisation comprend un générateur de motif dynamique qui peut être conçu pour produire un faisceau d'électrons sur lequel est imprimé un motif voulu. Un tel faisceau d'électrons à motif est activé par activation sélective d'éléments photoémissifs programmables du générateur de motif. L'appareil selon l'invention comprend en outre une source d'éclairage destinée à diriger un faisceau lumineux sur le générateur de motif dynamique pour produire le faisceau d'électrons présentant le motif voulu. Le faisceau d'électrons est dirigé par l'intermédiaire d'une optique électronique associée conçue pour recevoir le faisceau d'électrons en provenance du générateur de motif dynamique et le diriger sur un substrat cible monté sur une platine.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)