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1. (WO2008086282) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES POUR UTILISER DES INFORMATIONS ÉLECTRIQUES DANS LE CADRE DE LA FABRICATION D'UN DISPOSITIF SUR UNE TRANCHE AFIN D'ACCOMPLIR UNE OU PLUSIEURS FONCTIONS LIÉES À DES DÉFAUTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/086282    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/050397
Date de publication : 17.07.2008 Date de dépôt international : 07.01.2008
CIB :
G01N 21/95 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01), G01R 31/307 (2006.01), G01R 31/311 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G06T 7/20 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; 160 Rio Robles, San Jose, California 95134 (US) (Tous Sauf US).
PARK, Allen [US/US]; (US) (US Seulement).
ROSE, Peter [US/US]; (US) (US Seulement).
CHANG, Ellis [US/US]; (US) (US Seulement).
DUFFY, Brian [US/US]; (US) (US Seulement).
MCCORD, Mark [US/US]; (US) (US Seulement).
ABBOTT, Gordon [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PARK, Allen; (US).
ROSE, Peter; (US).
CHANG, Ellis; (US).
DUFFY, Brian; (US).
MCCORD, Mark; (US).
ABBOTT, Gordon; (US)
Mandataire : MEWHERTER, Ann Marie; Entropy Matters LLC, P.O. Box 2250, New York, NY 10021 (US)
Données relatives à la priorité :
60/883,617 05.01.2007 US
Titre (EN) METHODS AND SYSTEMS FOR USING ELECTRICAL INFORMATION FOR A DEVICE BEING FABRICATED ON A WAFER TO PERFORM ONE OR MORE DEFECT-RELATED FUNCTIONS
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES POUR UTILISER DES INFORMATIONS ÉLECTRIQUES DANS LE CADRE DE LA FABRICATION D'UN DISPOSITIF SUR UNE TRANCHE AFIN D'ACCOMPLIR UNE OU PLUSIEURS FONCTIONS LIÉES À DES DÉFAUTS
Abrégé : front page image
(EN)Various methods and systems for using electrical information for a device being fabricated on a wafer to perform one or more defect-related functions are provided. One computer-implemented method includes using electrical information for a device being fabricated on a wafer to perform one or more defect-related functions. The one or more defect-related functions include one or more post-mask, defect-related functions.
(FR)Les divers procédés et systèmes selon l'invention utilisent des informations électriques dans le cadre de la fabrication d'un dispositif sur une tranche afin d'accomplir une ou plusieurs fonctions liées à des défauts. Un procédé mis en œuvre par ordinateur comprend l'utilisation d'informations électriques dans le cadre de la fabrication d'un dispositif sur une tranche afin d'accomplir une ou plusieurs fonctions liées à des défauts. La ou les fonctions liées à des défauts comprennent une ou plusieurs fonctions post-masque liées à des défauts.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)