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1. (WO2008085813) PROCÉDÉS D'ÉLABORATION DE NANOMOTIFS ET PRODUCTION DE NANOSTRUCTUREURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/085813    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/000013
Date de publication : 17.07.2008 Date de dépôt international : 03.01.2008
CIB :
B82B 1/00 (2006.01)
Déposants : NANOSYS, INC, ET AL. [US/US]; 2625 Hanover Street, Palo Alto, CA 94304 (US) (Tous Sauf US).
CHEN, Jian [CN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHEN, Jian; (US)
Mandataire : FEATHERSTONE, Donald, J.; Sterne, Kessler, Goldstein & Fox P.L.L.C., 1100 New York Avenue, N.W., Washington, DC 20005-3934 (US)
Données relatives à la priorité :
60/878,342 03.01.2007 US
60/906,824 14.03.2007 US
Titre (EN) METHODS FOR NANOPATTERNING AND PRODUCTION OF NANOSTRUCTURES
(FR) PROCÉDÉS D'ÉLABORATION DE NANOMOTIFS ET PRODUCTION DE NANOSTRUCTUREURS
Abrégé : front page image
(EN)Methods for nanopatterning and methods for production of nanoparticles utilizing such nanopatterning are described herein, hi exemplary embodiments, masking nanoparticles are disposed on various substrates and to form a nanopatterned mask. Using various etching and filling techniques, nanoparticles and nanocavities can be formed using the masking nanoparticles and methods described throughout.
(FR)Procédé d'élaboration de nanomotifs et procédés de production de nanoparticules faisant appel à cette formation de nanomotifs. A titre d'exemples, selon certaines variantes, des nanoparticules de masquage sont disposées sur divers substrats pour la formation d'un masque à nanomotifs. L'utilisation de diverses techniques d'attaque et de remplissage, on peut former des nanoparticules et des nanocavités en utilisant les nanoparticules de masquage et les procédés décrits.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)