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1. (WO2008084802) COMPOSITION SERVANT À FORMER UN MATÉRIAU BARRIÈRE AUX GAZ, MATÉRIAU BARRIÈRE AUX GAZ ET PROCÉDÉ SERVANT À PRODUIRE CELUI-CI ET MATÉRIAU D'EMBALLAGE BARRIÈRE AUX GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/084802    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/050120
Date de publication : 17.07.2008 Date de dépôt international : 09.01.2008
CIB :
C08G 59/42 (2006.01), B32B 27/30 (2006.01), B65D 65/40 (2006.01), C08G 59/24 (2006.01), C08J 3/24 (2006.01)
Déposants : TOYO SEIKAN KAISHA, LTD. [JP/JP]; 3-1, Uchisaiwai-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008522 (JP) (Tous Sauf US).
KANSAI PAINT CO., LTD. [JP/JP]; 33-1, Kanzaki-cho, Amagasaki-shi, Hyogo 6618555 (JP) (Tous Sauf US).
OBU, Yusuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAI, Kashiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MASUDA, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUDA, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HORIKE, Naoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIDAKA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAMURA, Koichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OBU, Yusuke; (JP).
SASAKI, Hiroshi; (JP).
KAWAI, Kashiko; (JP).
MASUDA, Hideki; (JP).
MATSUDA, Hideki; (JP).
HORIKE, Naoki; (JP).
HIDAKA, Takahiro; (JP).
TAMURA, Koichi; (JP)
Mandataire : ONO, Hisazumi; Nippon Shuzo bldg. 1-21, Nishi-shimbashi, 1-chome Minato-ku Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-003725 11.01.2007 JP
2007-126899 11.05.2007 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING GAS BARRIER MATERIAL, GAS BARRIER MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND GAS BARRIER PACKAGING MATERIAL
(FR) COMPOSITION SERVANT À FORMER UN MATÉRIAU BARRIÈRE AUX GAZ, MATÉRIAU BARRIÈRE AUX GAZ ET PROCÉDÉ SERVANT À PRODUIRE CELUI-CI ET MATÉRIAU D'EMBALLAGE BARRIÈRE AUX GAZ
(JA) ガスバリア材形成用組成物、ガスバリア材及びその製造方法並びにガスバリア性包装材
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a composition for forming a gas barrier material, which is characterized by containing at least a polycarboxylic acid polymer (A) and an at least bifunctional alicyclic epoxy compound (B). This composition enables to form a gas barrier material which is excellent in gas barrier properties, retort resistance and flexibility. In addition, this composition for forming a gas barrier material can be cured at a lower temperature in a shorter time without affecting a plastic base, and thus enables to improve the productivity.
(FR)L'invention concerne une composition servant à former un matériau barrière aux gaz, laquelle est caractérisée en ce qu'elle contient au moins un polymère d'un acide polycarboxylique (A) et un composé époxy alicyclique au moins difonctionnel (B). Cette composition permet de former un matériau barrière aux gaz qui est excellent en termes de propriétés de barrière aux gaz, de résistance à la stérilisation et de flexibilité. En plus, cette composition servant à former un matériau barrière aux gaz peut être durcie à une plus basse température sur une plus courte durée sans affecter une base en plastique et permet donc d'améliorer la productivité.
(JA) 本発明のガスバリア材形成用組成物は、少なくとも、ポリカルボン酸系ポリマー(A)と、少なくとも2官能の脂環式エポキシ化合物(B)を含むことを特徴とするものであり、優れたガスバリア性、耐レトルト性、可撓性を有するガスバリア材を形成可能であると共に、より低温短時間での硬化を可能とし、プラスチック基体に影響を与えることがなく、生産性を向上することが可能なガスバリア材形成用組成物を提供することができる。    
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)