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1. (WO2008084529) APPAREIL DE FUSION À ZONE FLOTTANTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/084529    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/050117
Date de publication : 17.07.2008 Date de dépôt international : 10.01.2007
CIB :
C30B 13/00 (2006.01)
Déposants : CRYSTAL SYSTEMS CORP. [JP/JP]; 9633-1, Kobuchisawa-cho, Hokuto-shi, Yamanashi 4080044 (JP) (Tous Sauf US).
SHINDO, Isamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHINDO, Isamu; (JP)
Mandataire : SUZUKI, Shunichiro; S.SUZUKI & ASSOCIATES Gotanda Yamazaki Bldg. 6F 13-6, Nishigotanda 7-chome Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) FLOATING ZONE MELTING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE FUSION À ZONE FLOTTANTE
(JA) 浮遊帯域溶融装置
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides an infrared intensive heating-type floating zone melting apparatus which has a small temperature gradient in the circumferential direction of a sample in a melting part, exhibits a steep temperature gradient in the vertical direction, can realize a satisfactorily high highest attainable temperature and can form a stable molten state. The floating zone melting apparatus is a four elliptical mirror-type floating zone melting apparatus comprising rotary ellipsoid reflectors (2) disposed opposite to each other on an orthogonal axis. In this apparatus, the eccentricity of the rotary ellipsoid reflector (2) is 0.4 to 0.65, and the ratio of the depth of the rotary ellipsoid reflector (2) to the diameter of an opening in the rotary ellipsoid reflector (2) is 0.38 to 0.75. A glass mirror was used as the rotary ellipsoid reflector (2). Further, the rotary ellipsoid reflector (2) is disposed so that a straight line from one focal point to the other focal point is slanted downward, and infrared light reflected from the reflecting surface is applied to a sample from an oblique top direction, whereby a large-diameter single crystal can be grown.
(FR)La présente invention concerne un appareil de fusion à infrarouge à zone flottante du type à chauffage intensif. L'appareil présente un petit gradient de température dans le sens de la circonférence d'un échantillon dans une partie en fusion, et il présente un gradient de température élevé dans le sens vertical. L'appareil peut en outre atteindre une température maximale suffisamment élevée, et il peut former un état de fusion stable. L'appareil de fusion à zone flottante est un appareil de fusion à zone flottante du type à quatre miroirs elliptiques, comprenant des réflecteurs ellipsoïdaux rotatifs (2) disposés face à face sur un axe orthogonal. Dans cet appareil, l'excentricité du réflecteur ellipsoïdal rotatif (2) est de 0,4 à 0,65, et le rapport de la profondeur du réflecteur ellipsoïdal rotatif (2) au diamètre d'une ouverture dans le réflecteur ellipsoïdal rotatif (2) est de 0,38 à 0,75. Un miroir en verre a été utilisé comme réflecteur ellipsoïdal rotatif (2). En outre, le réflecteur ellipsoïdal rotatif (2) est disposé de telle sorte qu'une droite s'étendant d'un premier point focal à l'autre point focal est inclinée vers le bas et une lumière infrarouge réfléchie depuis la surface de réflexion est appliquée à un échantillon dans un sens oblique à partir du dessus. De ce fait un monocristal de grand diamètre peut être développé.
(JA) 溶融部における試料の円周方向の温度勾配が小さく、その垂直方向の温度勾配が急峻であり、且つ充分に高い最高到達温度を得ることができ、安定した溶融状態を形成可能な赤外線集中加熱式の浮遊帯域溶融装置を提供する。  回転楕円面反射鏡2を直交軸上に対向配置した四楕円鏡型の浮遊帯域溶融装置において、回転楕円面反射鏡2の離心率を0.4~0.65とすると共に、回転楕円面反射鏡2の深さの開口部直径に対する比を0.38~0.75とした。さらに、回転楕円面反射鏡2として、ガラス鏡を使用した。また、回転楕円面反射鏡2を、一方の焦点から他方の焦点への直線が下方へ傾斜するように配置し、反射面で反射された赤外線を斜め上方から試料へ照射することにより、大口径の単結晶を育成可能とした。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)