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1. (WO2008083071) PROCÉDÉ DE MEULAGE D'UN SUBSTRAT DE SAPHIR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/083071    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/088548
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 21.12.2007
CIB :
B24B 1/00 (2006.01), B24B 7/22 (2006.01)
Déposants : SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC. [US/US]; One New Bond Street Box Number 15138, Worcester, Massachusetts 01615-0138 (US) (Tous Sauf US).
TANIKELLA, Brahmanandam, V. [IN/US]; (US) (US Seulement).
CHINNAKARUPPAN, Palaniappan [IN/US]; (US) (US Seulement).
RIZZUTO, Robert, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
CHERIAN, Isaac, K. [IN/US]; (US) (US Seulement).
VEDANTHAM, Ramanujam [IN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : TANIKELLA, Brahmanandam, V.; (US).
CHINNAKARUPPAN, Palaniappan; (US).
RIZZUTO, Robert, A.; (US).
CHERIAN, Isaac, K.; (US).
VEDANTHAM, Ramanujam; (US)
Mandataire : BUJOLD, Michael, J.; Davis Bujold & Daniels, P.L.L.C., 112 Pleasant Street, Concord, New Hampshire 03301 (US)
Données relatives à la priorité :
60/882,351 28.12.2006 US
Titre (EN) METHOD OF GRINDING A SAPPHIRE SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE MEULAGE D'UN SUBSTRAT DE SAPHIR
Abrégé : front page image
(EN)A method of machining a sapphire substrate comprises grinding a first surface of a sapphire substrate using a first fixed abrasive and grinding said first surface of the sapphire substrate using a second fixed abrasive, wherein the second fixed abrasive has a smaller average grain size than the first fixed abrasive, and wherein the second, fixed abrasive is self -dressing.
(FR)L'invention concerne un procédé d'usinage d'un substrat de saphir comportant le meulage d'une première surface d'un substrat de saphir en utilisant un premier abrasif fixe et le meulage de la première surface du substrat de saphir en utilisant un second abrasif fixe, le second abrasif fixe ayant une dimension moyenne de grain plus petite que le premier abrasif fixe, et dans lequel le second abrasif fixe est auto-traitant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)