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1. (WO2008082434) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR DÉTECTER L'ÉNERGIE ÉLECTROMAGNÉTIQUE À L'AIDE DE POLARITONS DE PLASMON DE SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/082434    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/012165
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 22.05.2007
CIB :
G01R 29/08 (2006.01)
Déposants : LOCKHEED MARTIN CORPORATION [US/US]; 6801 Rockledge Drive, Bethesda, MD 20817 (US) (Tous Sauf US).
WILLIAMS, Brett, A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WILLIAMS, Brett, A.; (US)
Mandataire : KEANE, Patrick, C.; Buchanan Ingersoll & Rooney Pc, P.O. Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404 (US)
Données relatives à la priorité :
60/809,343 31.05.2006 US
11/589,937 31.10.2006 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING EM ENERGY USING SURFACE PLASMON POLARITONS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR DÉTECTER L'ÉNERGIE ÉLECTROMAGNÉTIQUE À L'AIDE DE POLARITONS DE PLASMON DE SURFACE
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus and method are disclosed for detecting electromagnetic (EM) energy. An exemplary apparatus includes a dielectric layer for receiving incident EM energy, a metal film and a circuit. The metal film has a first surface adjacent to the dielectric layer and has a thickness selected to stimulate surface plasma polaritons on a second surface of the metal film for electromagnetic energy having a given electromagnetic wavelength incident on the dielectric layer. The circuit determines an incident angle of the incident electromagnetic energy on the dielectric based on the EM energy from the stimulated surface plasmon polaritons. The azimuth and elevation of the incident EM energy can also be determined.
(FR)L'invention concerne un appareil et un procédé pour détecter une énergie électromagnétique (EM). Un appareil donné à titre d'exemple comprend une couche diélectrique pour recevoir une énergie EM incidente, un film métallique et un circuit. Le film métallique a une première surface adjacente à la couche diélectrique et a une épaisseur choisie pour stimuler des polaritons de plasma de surface sur une seconde surface du film métallique pour l'énergie électromagnétique ayant une longueur d'onde électromagnétique donnée incidente sur la couche diélectrique. Le circuit détermine un angle d'incidence de l'énergie électromagnétique incidente sur le diélectrique sur la base de l'énergie EM provenant des polaritons de plasmon de surface stimulés. L'azimut et l'élévation de l'énergie EM incidente peuvent également être déterminés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)