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1. (WO2008082236) POLYMÈRE DOTÉ DE PROPRIÉTÉS ANTIREFLET, COMPOSITION DE MASQUE DUR COMPRENANT CE POLYMÈRE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE MATIÈRE À MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2008/082236 N° de la demande internationale : PCT/KR2007/007025
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 31.12.2007
CIB :
C08G 61/10 (2006.01)
Déposants : YOON, Kyong Ho[KR/KR]; KR (UsOnly)
KIM, Jong Seob[KR/KR]; KR (UsOnly)
UH, Dong Seon[KR/KR]; KR (UsOnly)
OH, Chang Il[KR/KR]; KR (UsOnly)
HYUNG, Kyung Hee[KR/KR]; KR (UsOnly)
KIM, Min Soo[KR/KR]; KR (UsOnly)
LEE, Jin Kuk[KR/KR]; KR (UsOnly)
CHEIL INDUSTRIES INC.[KR/KR]; 290, Gongdan 2-dong Gumi-si, Gyeongsangbuk-do 730-710, KR (AllExceptUS)
Inventeurs : YOON, Kyong Ho; KR
KIM, Jong Seob; KR
UH, Dong Seon; KR
OH, Chang Il; KR
HYUNG, Kyung Hee; KR
KIM, Min Soo; KR
LEE, Jin Kuk; KR
Mandataire : PARK, Yong Soon ; 6F., Ilheung Bldg., 1490-25, Seocho-dong Seocho-gu Seoul 137-070, KR
Données relatives à la priorité :
10-2006-013841829.12.2006KR
Titre (EN) POLYMER HAVING ANTIREFLECTIVE PROPERTIES, HARDMASK COMPOSITION INCLUDING THE SAME, AND PROCESS FOR FORMING A PATTERNED MATERIAL LAYER
(FR) POLYMÈRE DOTÉ DE PROPRIÉTÉS ANTIREFLET, COMPOSITION DE MASQUE DUR COMPRENANT CE POLYMÈRE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE MATIÈRE À MOTIFS
Abrégé :
(EN) A naphthalene-backbone polymer having antireflective properties is provided. The polymer is represented by Formula 1, which is described in the specification.
(FR) La présente invention concerne un polymère à squelette naphtalène doté de propriétés antireflet. Le polymère est représenté par la formule 1 qui est décrite dans le mémoire descriptif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)