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1. (WO2008082210) PROCÉDÉ UTILISANT UNE TECHNIQUE DE REVÊTEMENT PAR MOUSSAGE POUR LA FABRICATION DE MILIEUX FILTRANTS DESTINÉS À TRAITER DES GAZ D'ÉCHAPPEMENT PRÉSENTANT DES TEMPÉRATURES MOYENNES ET ÉLEVÉES, ET MILIEUX FILTRANTS FABRIQUÉS À L'AIDE DU PROCÉDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/082210    N° de la demande internationale :    PCT/KR2007/006978
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 28.12.2007
CIB :
B01D 39/00 (2006.01)
Déposants : KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY [KR/KR]; 35-3, Hongchon-ri, Ipchang-myeon, Cheonan-si, Chungcheongnam-do 330-825 (KR) (Tous Sauf US).
KIM, Gyung Soo [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Sang Bum [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Myong-Hwa [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Young-Chun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Seung Je [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
PARK, Byung Hyun [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KIM, Gyung Soo; (KR).
KIM, Sang Bum; (KR).
LEE, Myong-Hwa; (KR).
KIM, Young-Chun; (KR).
LEE, Seung Je; (KR).
PARK, Byung Hyun; (KR)
Mandataire : SON, Min; 19th Floor, City Air Tower 159-9, Samseong-dong, Gangnam-gu, Seoul 135-973 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2006-0136943 28.12.2006 KR
Titre (EN) MANUFACTURING METHOD OF FILTER MEDIA AVAILABLE AT MEDIUM AND HIGH TEMPERATURE EXHAUST GAS USING FOAM COATING TECHNOLOGY AND FILTER MEDIA MANUFACTURED THEREBY
(FR) PROCÉDÉ UTILISANT UNE TECHNIQUE DE REVÊTEMENT PAR MOUSSAGE POUR LA FABRICATION DE MILIEUX FILTRANTS DESTINÉS À TRAITER DES GAZ D'ÉCHAPPEMENT PRÉSENTANT DES TEMPÉRATURES MOYENNES ET ÉLEVÉES, ET MILIEUX FILTRANTS FABRIQUÉS À L'AIDE DU PROCÉDÉ
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein is a method of producing a filter medium for treating medium and high temperature exhaust gas using foam coating and a filter medium produced using the method. The filter medium has excellent heat resistance and heat contraction resistance, and exhibits partial dust collection efficiency of 99% or more by weight, total dust collection efficiency of 99.999% or more by weight, and high dust removal efficiency, for all dust particle sizes. Further, the filter media can be efficiently used to treat medium and high temperature exhaust gas because pores having an average pore size of 30 D or less are uniformly distributed on the surface of the filter media.
(FR)L'invention se réfère à un procédé de production utilisant un revêtement par moussage pour former un milieu filtrant destiné à traiter des gaz d'échappement présentant des températures moyennes et élevées, et à un milieu filtrant produit à l'aide du procédé. Ce milieu filtrant présente une excellente résistance à la chaleur et une excellente résistance à la contraction thermique, une efficacité de collecte partielle de poussières égale ou supérieure à 99% en poids, une efficacité de collecte totale de poussières égale ou supérieure à 99,999% en poids ainsi qu'une efficacité élevée d'élimination des poussières pour toutes les tailles de particules de poussières. De plus, ces milieux filtrants peuvent être utilisés efficacement pour traiter des gaz d'échappement présentant des températures moyennes à élevées, car les pores présentant une taille moyenne des pores égale ou inférieurs à 30 D sont distribués uniformément sur la surface des milieux filtrants.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)