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1. (WO2008082000) MODÈLE D'ÉVALUATION D'ABERRATION, PROCÉDÉ D'ÉVALUATION D'ABERRATION, PROCÉDÉ DE CORRECTION D'ABERRATION, APPAREIL D'ÉTIRAGE DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS, MICROSCOPE À ÉLECTRONS, MAÎTRE, POINÇONNEUSE, SUPPORT D'ENREGISTREMENT, ET STRUCTURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/082000    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/075417
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 27.12.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G01N 1/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01J 37/153 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Déposants : RICOH COMPANY, LTD. [JP/JP]; 3-6, Nakamagome 1-chome, Ohta-ku, Tokyo, 1438555 (JP) (Tous Sauf US).
CRESTEC CORPORATION [JP/JP]; 2-8, Tokura 4-chome, Kokubunji-shi, Tokyo, 1850003 (JP) (Tous Sauf US).
MIYATA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAZAKI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Kazuhiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HAYASHI, Kunito [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIYATA, Hiroyuki; (JP).
MIYAZAKI, Takeshi; (JP).
KOBAYASHI, Kazuhiko; (JP).
HAYASHI, Kunito; (JP)
Mandataire : ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-chome, Shibuya-ku, Tokyo 1506032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-356875 29.12.2006 JP
2007-306627 27.11.2007 JP
Titre (EN) ABERRATION EVALUATION PATTERN, ABERRATION EVALUATION METHOD, ABERRATION CORRECTION METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING APPARATUS, ELECTRON MICROSCOPE, MASTER, STAMPER, RECORDING MEDIUM, AND STRUCTURE
(FR) MODÈLE D'ÉVALUATION D'ABERRATION, PROCÉDÉ D'ÉVALUATION D'ABERRATION, PROCÉDÉ DE CORRECTION D'ABERRATION, APPAREIL D'ÉTIRAGE DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS, MICROSCOPE À ÉLECTRONS, MAÎTRE, POINÇONNEUSE, SUPPORT D'ENREGISTREMENT, ET STRUCTURE
Abrégé : front page image
(EN)A method of evaluating astigmatism of an irradiation system irradiating an electron beam is disclosed. In this method, a figure pattern consisting of plural (for example, four) concentric circles is formed on a reference sample 'WP' and an image (scanned image) is formed based on an electron signal obtained by scanning the electron beam onto the reference sample 'WP'. In the scanned image, the image has a blur in a region with its longitudinal direction parallel to the generating direction of the astigmatism and the size of the blur depends on magnitude of the astigmatism. Therefore, the direction and the magnitude of the astigmatism of the irradiation system of an irradiation apparatus can be detected based on the obtained scanned image.
(FR)L'invention concerne le procédé consistant à évaluer l'astigmatisme d'un système d'irradiation irradiant un faisceau d'électrons. Dans ce procédé, un modèle de figure est composé de plusieurs (par exemple quatre) cercles concentriques est formé sur un échantillon de référence « WP » et une image (une image scannée) est formée en fonction d'un signal d'électrons obtenu en scannant le faisceau d'électrons sur l'échantillon de référence « WP ». Dans l'image scannée, l'image a un flou situé dans une région, sa direction longitudinale parallèle à la direction de génération de l'astigmatisme et la taille du flou dépendant de la magnitude de l'astigmatisme. Par conséquent, la direction et la magnitude de l'astigmatisme du système d'irradiation d'un appareil d'irradiation peuvent être détectées en fonction de l'image scannée obtenue.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)