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1. (WO2008081950) DISPOSITIF D'IMAGERIE SEMI-CONDUCTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET MODULE D'APPAREIL PHOTO
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/081950    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/075332
Date de publication : 10.07.2008 Date de dépôt international : 29.12.2007
CIB :
H01L 27/14 (2006.01), H04N 5/335 (2011.01), H04N 5/357 (2011.01), H04N 5/369 (2011.01)
Déposants : BONKOHARA, Manabu [JP/JP]; (JP)
Inventeurs : BONKOHARA, Manabu; (JP)
Mandataire : IZUMI, Katsufumi; 2nd floor, Suganuma Bldg. 20-6, Toranomon 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-356931 29.12.2006 JP
Titre (EN) SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND CAMERA MODULE
(FR) DISPOSITIF D'IMAGERIE SEMI-CONDUCTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET MODULE D'APPAREIL PHOTO
(JA) 固体撮像装置及びその製造方法並びにカメラモジュール
Abrégé : front page image
(EN)Image quality deterioration due to external light applied on an edge portion of a transparent cover of a solid-state imaging element and external light propagating inside the transparent cover is eliminated by a simple constitution. A glass cover (60) formed to cover the entire surface of an imaging region (26) of a solid-state imaging element (10) is composed of a transmitting section (60a) which corresponds to the imaging region (26), and an edge section (60b) which surrounds the transmitting section (60a) outside the transmitting section (60a). The edge portion (60b) of the glass cover (60) is selectively removed over the entire circumference, and a truncated pyramid portion whose cross-section monotonously reduces from a light outgoing side to the light incoming side is formed on the glass cover (60). On an outer surface of the truncated pyramid portion, an optical functional film (63) having light absorbing or light reflecting or light scattering effect is formed.
(FR)Une détérioration de qualité d'image due à une lumière externe appliquée sur une partie de bordure d'un revêtement transparent d'un élément d'imagerie semi-conducteur et à une lumière externe se propageant à l'intérieur du revêtement transparent est éliminée par une structure simple. Un revêtement en verre (60) formé pour recouvrir la surface entière d'une région d'imagerie (26) d'un élément d'imagerie semi-conducteur (10) est composé d'une section de transmission (60a) qui correspond à la région d'imagerie (26), et une section de bordure (60b) qui entoure la section de transmission (60a) à l'extérieur de la section de transmission (60a). La partie de bordure (60b) du revêtement en verre (60) est retirée de façon sélective sur la périphérie entière, et une partie pyramidale tronquée dont la section en coupe transversale se réduit de façon monotone d'un côté de sortie de lumière au coté d'entrée de lumière est formée sur le revêtement en verre (60). Sur une surface externe de la partie pyramidale tronquée, un film fonctionnel optique (63) ayant un effet d'absorption de lumière ou de réflexion de lumière ou de diffusion de lumière est formé.
(JA) 簡単な構成で、固体撮像素子の透明カバーのエッジ部に照射された外部光と、透明カバーの内部を伝播する外部光に起因する画質劣化を防止する。  固体撮像素子10の撮像領域26の全面を覆うように形成されたガラスカバー60を、撮像領域26に対応する透過部60aと、透過部60aより外側において当該透過部60aを取り囲むエッジ部60bとから形成する。ガラスカバー60のエッジ部60bは、その全周にわたって選択的に除去されていて、それによって光出射側から光入射側に向かってその断面積が単調に減少する角錐台状部分をガラスカバー60に形成している。前記角錐台状部分の外面には、光吸収、光反射または光散乱作用を持つ光機能膜63が形成されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)